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機械学習を使った半導体欠陥予測の進展

機械学習が半導体の欠陥予測を向上させて、材料の性能を良くするんだ。

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半導体の欠陥における新たな半導体の欠陥における新たな発見をより良くしてるんだ。機械学習が半導体の欠陥予測を変えて、材料
目次

半導体は、電子機器、ヘルスケア、再生可能エネルギーなどの現代技術で重要な役割を果たしてる。特定の条件下で電気を導くことができる材料で、太陽電池やトランジスタ、センサーなどのデバイスには欠かせない存在。ただ、性能は欠陥と呼ばれる不完全さに影響されることがある。欠陥には、原子が欠けてたり、余分な原子があったり、間違った位置に原子があったりすることが含まれる。これらの欠陥を理解して、それが与える影響を予測することは、より良い半導体材料を開発するために重要なんだ。

半導体の欠陥の重要性

半導体の欠陥は、その性質に大きく影響することがある。例えば、材料内にエネルギー準位を作り出して、電子の動きやすさに影響を与えることがある。これが太陽電池のようなデバイスの効率に影響することがあり、欠陥が光の吸収量を減少させることになる。一方で、ある種の欠陥は特定の機能を活性化させることで、特定の用途には必要不可欠だったりする。

半導体材料の性能を向上させるためには、研究者はこれらの欠陥の生成と安定性を正確に予測する必要がある。これまで、量子力学の原理に基づいた複雑なコンピュータシミュレーションを使って行われてきたが、計算コストや時間がかかることが多かった。でも、機械学習の進展のおかげで、半導体の欠陥をもっと効率的に予測する新しい道が開かれてきてる。

欠陥予測における機械学習

機械学習は、データから学んで予測を行うことができる人工知能の一分野。大規模なデータセットを分析することで、機械学習モデルは一見明らかでないパターンや関係性を見つけられる。半導体の欠陥に関しても、機械学習は様々な材料における欠陥の振る舞いを予測するのを助けることができる。

私たちのアプローチは、従来のシミュレーションと機械学習を組み合わせるシステムを開発することだった。シミュレーションのデータを使って、さまざまな半導体材料の欠陥の特性を予測できるモデルを訓練した。主なアイデアは、機械学習を使って欠陥の予測を従来の方法よりも速く、より正確に行うこと。

大規模なデータセットの開発

機械学習モデルを効果的に訓練するためには、大規模な欠陥情報のデータセットが必要だった。このデータセットは、基本的な物理に基づいた計算を使用して生成した。これによって、様々な半導体における欠陥のエネルギーに関する豊富な情報を作り出すことができた。

私たちは、グループIV、III-V、II-VIの三つの主要なグループの材料に焦点を当てた。これらのグループには、シリコン(Si)、ガリウムヒ素(GaAs)、カドミウムテルル(CdTe)など、広く使用される材料が含まれている。データセットには、原子が欠けている空孔や、結晶内の余分な原子、間違った位置にある原子など、様々なタイプの欠陥が含まれていた。多様な材料全体にわたる幅広い欠陥を取り入れることで、半導体における欠陥の振る舞いを包括的に捉えることを目指した。

グラフベースのニューラルネットワークの利用

私たちの機械学習モデルでは、グラフニューラルネットワーク(GNN)という技術を採用した。GNNは、グラフ形式で表されたデータに対してうまく機能する機械学習モデルの一種。私たちの場合、半導体構造をグラフとして表現し、原子をノード、化学結合をエッジとして扱った。これにより、モデルは原子間の関係性や、それが欠陥の特性に与える影響を学ぶことができた。

研究では、三つの異なるGNN技術を試した:クリスタルグラフ畳み込みニューラルネットワーク(CGCNN)、マテリアルグラフネットワーク(MEGNET)、アトミスティックライングラフニューラルネットワーク(ALIGNN)。それぞれのモデルには強みがあるけど、ALIGNNが欠陥形成エネルギーの予測で最も良いパフォーマンスを示した。

モデルの訓練

私たちは、作成した大規模な欠陥データセットを使って、GNNモデルを訓練した。訓練プロセスでは、モデルに入力データを与えて、予測の誤差を最小化するようにパラメータを調整する。この訓練段階は重要で、モデルが半導体の構造的特徴と欠陥のエネルギーの関係を学ぶことができるから。

訓練後、目にしたことのないデータでモデルをテストして、モデルの妥当性を確認した。このバリデーションステップで、モデルが十分に一般化できていて、訓練データセットに含まれていない欠陥の正確な予測ができることを保証した。結果として、ALIGNNモデルは非常に優れた性能を示し、様々な欠陥の形成エネルギーを約98%の精度で予測できた。

モデルの実用的な応用

一度訓練が終われば、これらのモデルを使って新しい半導体材料の欠陥の形成エネルギーを迅速に予測することができる。この能力は、欠陥が少ないか、特性が向上した新しい材料を開発しようとする研究者にとって価値がある。例えば、新しい太陽電池材料を設計する際、研究者はモデルを使って何千もの潜在的な欠陥をスクリーニングし、性能を向上させる可能性のある欠陥を特定できる。

さらに、欠陥がさまざまな環境でどのように振る舞うかを予測できる能力は、製造プロセスにおいても適用可能で、最適化された特性を持った半導体が生産されることを確実にする。

構造最適化の加速

欠陥予測における機械学習の大きな利点の一つは、結晶構造の最適化を加速できることだ。新しい欠陥が半導体に導入されると、結果の構造は理想的な構造と大きく異なることがある。従来の最適化方法は時間がかかることが多く、数千時間の計算時間を要することもある。しかし、私たちのGNNモデルは、新しい構造の欠陥エネルギーを迅速に見積もることができる。

訓練したALIGNNモデルを使って、欠陥のある構造を最適化する新しい方法を示した。この方法は、結晶内の原子の位置を逐次調整して、予測された欠陥エネルギーを下げる構成を見つけるもの。これは従来の方法よりもずっと速く行えるから、多くの異なる潜在的な構造を迅速に探索することが可能になる。

低エネルギー欠陥のスクリーニング

私たちのGNNモデルを使って、潜在的な半導体材料の大規模な化学空間における欠陥のハイスループットスクリーニングを行った。このスクリーニングプロセスでは、12,000以上の可能な欠陥の形成エネルギーを予測した。異なる条件下で安定し得る低エネルギー欠陥を特定するための具体的な基準を設定した。

スクリーニングの結果、様々な半導体材料で安定する可能性が高い欠陥がいくつか明らかになった。形成エネルギーが低い欠陥に焦点を当てることで、研究者は半導体デバイスの性能を向上させる特定の不純物やドーパントを狙うことができる。

結論

結論として、特にグラフニューラルネットワークの使用を通じて、機械学習の統合は半導体の欠陥研究において重要な進展を示している。欠陥特性の包括的なデータセットを作成し、堅牢な予測モデルを訓練することで、様々な材料における欠陥の振る舞いをよりよく理解できるようになった。この新たな能力は、次世代半導体材料の発見と最適化を加速させる。

今後は、モデルをさらに洗練させて、さまざまな半導体材料における利用を拡大するつもり。また、別の機械学習アプローチを探求することで、半導体技術における欠陥の予測と最適化のためのさらに強力なツールが得られるかもしれない。

オリジナルソース

タイトル: Accelerating Defect Predictions in Semiconductors Using Graph Neural Networks

概要: Here, we develop a framework for the prediction and screening of native defects and functional impurities in a chemical space of Group IV, III-V, and II-VI zinc blende (ZB) semiconductors, powered by crystal Graph-based Neural Networks (GNNs) trained on high-throughput density functional theory (DFT) data. Using an innovative approach of sampling partially optimized defect configurations from DFT calculations, we generate one of the largest computational defect datasets to date, containing many types of vacancies, self-interstitials, anti-site substitutions, impurity interstitials and substitutions, as well as some defect complexes. We applied three types of established GNN techniques, namely Crystal Graph Convolutional Neural Network (CGCNN), Materials Graph Network (MEGNET), and Atomistic Line Graph Neural Network (ALIGNN), to rigorously train models for predicting defect formation energy (DFE) in multiple charge states and chemical potential conditions. We find that ALIGNN yields the best DFE predictions with root mean square errors around 0.3 eV, which represents a prediction accuracy of 98 % given the range of values within the dataset, improving significantly on the state-of-the-art. Models are tested for different defect types as well as for defect charge transition levels. We further show that GNN-based defective structure optimization can take us close to DFT-optimized geometries at a fraction of the cost of full DFT. DFT-GNN models enable prediction and screening across thousands of hypothetical defects based on both unoptimized and partially-optimized defective structures, helping identify electronically active defects in technologically-important semiconductors.

著者: Md Habibur Rahman, Prince Gollapalli, Panayotis Manganaris, Satyesh Kumar Yadav, Ghanshyam Pilania, Brian DeCost, Kamal Choudhary, Arun Mannodi-Kanakkithodi

最終更新: 2023-09-13 00:00:00

言語: English

ソースURL: https://arxiv.org/abs/2309.06423

ソースPDF: https://arxiv.org/pdf/2309.06423

ライセンス: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/

変更点: この要約はAIの助けを借りて作成されており、不正確な場合があります。正確な情報については、ここにリンクされている元のソース文書を参照してください。

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