Simple Science

Hochmoderne Wissenschaft einfach erklärt

# Physik# Meso- und Nanoskalenphysik

Transport Eigenschaften von dicken Quecksilbertellurid-Filmen

Untersuchung der elektrischen Eigenschaften eines 1000 nm HgTe Films.

― 6 min Lesedauer


HgTe Film TransportHgTe Film TransportEigenschaftenQuecksilbertellurid.Ladungsträgern in dickemEinblicke in das Verhalten von
Inhaltsverzeichnis

In diesem Artikel werden wir über die Transporteigenschaften einer 1000 nm dicken Schicht aus Quecksilbertellurid (HgTe) sprechen. Dieses Material wurde viele Jahre lang wegen seiner einzigartigen elektrischen Eigenschaften untersucht. HgTe-Filme können je nach Dicke und Struktur des Materials unterschiedliche Verhaltensweisen zeigen.

Normalerweise sind dünnere Versionen von HgTe-Filmen dafür bekannt, als dreidimensionale (3D) topologische Isolatoren zu fungieren. Das bedeutet, sie lassen bestimmte Arten von elektrischem Strom auf ihren Oberflächen fliessen, blockieren ihn aber im Inneren. Der dickere HgTe-Film, den wir hier besprechen, wird jedoch aufgrund seiner Grösse andere Eigenschaften haben; es wird angenommen, dass er vollständig entspannt ist und sich mehr wie das Volumenmaterial verhält, das als Nullbandlücken-Halbleiter bekannt ist.

Wichtige Merkmale des Materials

Trotz der Dicke des Films wird angenommen, dass die Oberflächenzustände weiterhin existieren. Diese Oberflächenzustände sind oft mit interessanten elektrischen Eigenschaften verbunden. Wir haben untersucht, wie sich die Spannung am oberen Gate des Films auf den Fluss des elektrischen Stroms auswirkt und wie er zwischen der hauptsächlich elektronen- oder löcherleitenden Konduktion wechseln kann.

Elektronenmobilität und Leitfähigkeit

Eine der wichtigeren Entdeckungen war, dass die Elektronenmobilität – also wie leicht sich Elektronen durch das Material bewegen können – sehr hoch war, bestimmte Werte überschreitend (obwohl wir die genauen Zahlen nicht angeben werden). Das deutet darauf hin, dass selbst in einem dickeren Film das Potenzial für effizienten elektrischen Transport weiterhin vorhanden ist.

Der Film zeigte, was als Shubnikov-de Haas (SdH) Oszillationen bekannt ist, also Variationen des elektrischen Widerstands aufgrund des Einflusses eines Magnetfelds. Diese Oszillationen erzeugten ein komplexes Muster und zeigten mehrere Frequenzen, was auf die Anwesenheit verschiedener Gruppen von Ladungsträgern hinweist. Diese Gruppen umfassen die topologischen Oberflächenzustände und Volumenzustände im Bereich nahe dem Gate.

Historischer Kontext

Forscher haben sich seit über fünf Jahrzehnten für HgTe und verwandte Materialien wie HgCdTe interessiert. Zunächst lag der Fokus auf der minimalen oder nicht vorhandenen Volumenbandlücke, die faszinierende Wechselwirkungen mit Spin-Bahn-Kopplung ermöglicht und zu einzigartigen Verhaltensweisen von Teilchen in Festkörper-Systemen führt.

Im Laufe der Forschung wurden Eigenschaften wie Spin-Momentum-Verkettung deutlich, was das Interesse an der Physik von HgTe-Strukturen wiederbelebte. Es ist mittlerweile anerkannt, dass 2D oder quasi-2D HgTe-Filme nicht-triviale Oberflächenzustände bei verschiedenen Fermi-Niveau-Positionen haben, selbst wenn die Volumenbandlücke vorhanden ist.

Die Bedeutung der Dicke

Der Übergang von 80 nm oder 200 nm dicken Filmen zu einem viel dickeren 1000 nm Film stellt eine wesentliche Veränderung der Eigenschaften des Materials dar. Der dickere Film enthält das, was wir als triviale volumetrische 3D-Trägers bezeichneten, die mit topologischen Oberflächenzuständen interagieren können. Daher ist es wichtig zu untersuchen, wie diese Träger die Gesamte Transporteigenschaften beeinflussen.

Experimenteller Aufbau

Der 1000 nm HgTe-Film wurde mittels Molekularstrahlepitaxie auf einem Substrat gezüchtet. Der Film wurde zwischen Barriereschichten platziert, und ein metallisches Gate wurde verwendet, um die elektrische Umgebung zu steuern. Ein grundlegender Aspekt unserer Analyse bestand darin, den elektrischen Widerstand und die Kapazität der Struktur zu untersuchen.

Transportmessungen wurden bei sehr niedrigen Temperaturen durchgeführt, was uns ermöglichte, detaillierte Verhaltensweisen der Träger festzuhalten. Der Strom floss durch enge Kanäle, und die Messungen wurden unter variierenden Magnetfeldern durchgeführt.

Verschiedene Arten von Trägern

Bei der Evaluierung der Transporteigenschaften identifizierten wir mehrere Gruppen von Ladungsträgern im Film. Die Träger können grob in drei Typen unterteilt werden:

  1. Triviale 3D-Volumen-Träger: Das sind die standardmässigen Elektronen und Löcher, die im gesamten Volumen des Materials existieren.
  2. Akku-Layer-Träger: Diese entstehen durch die Gate-Spannung und können entweder Elektronen oder Löcher sein und haben deutlichere 2D-Eigenschaften.
  3. Topologische Oberflächenzustände: Diese sind bei allen Gate-Spannungen vorhanden und haben einzigartige Eigenschaften, die sie für fortgeschrittene Transporteigenschaften essenziell machen.

Dominanz von Elektronen und Löchern

Durch Anpassen der Gate-Spannung konnten wir von einem Zustand, der hauptsächlich Elektronen leitet, zu einem Zustand, der Löcher leitet, wechseln. Als die Spannung angepasst wurde, beobachteten wir signifikante Änderungen in den Widerstandswerten. Auch die Kapazitätsmessungen waren entscheidend, da sie die Dichten der Ladungsträger im Film widerspiegelten.

Bei hohen positiven Gate-Spannungen dominierten die Elektronen den Transport, während bei niedrigeren Werten die Löcher eine grössere Rolle zu spielen begannen. Wir bemerkten auch, dass die Mobilität der Elektronen viel höher war als die der Löcher, was die gesamte elektrische Reaktion beeinflusste.

Magnetotransportanalyse

Unsere Analyse des Einflusses des Magnetfelds auf den Widerstand zeigte, dass das System eine starke positive Magnetoresistenz aufwies. Das bedeutet, dass der Widerstand signifikant mit der Anwendung eines Magnetfelds ansteigt. Der Hall-Widerstand, der mit der Dichte der Ladungsträger zusammenhängt, zeigte ebenfalls Änderungen, je nachdem, ob er sich in einem positiven oder negativen Gate-Spannungszustand befand.

Um diese Eigenschaften besser zu verstehen, haben wir ein Zwei-Komponenten-Modell angewendet, um die Daten zu analysieren. Dies half, die Anwesenheit von sowohl Elektronen als auch Löchern zu identifizieren und deren jeweilige Beiträge zu den Transporteigenschaften zu bestimmen.

Quanten Transporteigenschaften

Die Shubnikov-de Haas-Oszillationen waren besonders ausgeprägt, was uns ermöglichte, mehr über die Ladungsträgerdichte im Film zu verstehen. Die Existenz einzigartiger Oszillationsmuster deutet darauf hin, dass verschiedene Arten von Ladungsträgern auf komplexe Weise miteinander interagieren.

Bei den positiven Gate-Spannungen beobachteten wir mehrere Spitzen in den Fourier-Spektren der Leitfähigkeitsoszillationen. Diese Spitzen wiesen auf die Anwesenheit verschiedener Gruppen 2D-Träger hin. Interessanterweise traten bei der Erkundung des Bereichs negativer Gate-Spannung ausgeprägte Spitzen auf, die durch die Bildung von Landau-Niveaus entstanden, was die Beziehung zwischen dem Magnetfeld und den Ladungszuständen zeigte.

Analyse von Mobilität und Dichte

Durch die Daten aus unseren Experimenten konnten wir die Elektronen- und Löcherdichten bei verschiedenen Gate-Spannungen bestimmen. Dies zeigte, dass hochmobile Elektronen und Löcher erheblich zu den Transporteigenschaften beitragen. Wir bemerkten besondere Trends, wie sich diese Dichten mit variierenden Gate-Spannungen änderten, was einen Zusammenhang zwischen den Ladungszuständen und den externen Gate-Effekten herstellte.

Fazit

Zusammenfassend hat die Untersuchung eines 1000 nm dicken HgTe-Films reiche elektrische Eigenschaften offenbart, die aus den Wechselwirkungen zwischen verschiedenen Arten von Ladungsträgern stammen. Durch sorgfältige Analyse der Auswirkungen von Gate-Spannung und Magnetfeldern konnten wir komplexe Verhaltensweisen beobachten, darunter hohe Mobilität und das Vorhandensein topologischer Oberflächenzustände.

Diese Arbeit legt nahe, dass dieses Material vielversprechende Anwendungen in zukünftigen elektronischen Geräten haben könnte, wobei das Verständnis des Zusammenspiels verschiedener Trägertypen entscheidend für die Entwicklung neuer Technologien ist. Eine weitere Forschung zu dickeren Filmen könnte zusätzliche Einblicke in die faszinierende Welt der topologischen Isolatoren und deren Rolle in der modernen Elektronik liefern.

Originalquelle

Titel: Transport properties of a 1000-nm HgTe film: the interplay of surface and bulk carriers

Zusammenfassung: We report on systematic study of transport properties of a 1000-nm HgTe film. Unlike to thinner and strained HgTe films, which are known as high-quality three-dimensional (3D) topological insulators, the film under study is much thicker than the limit of pseudomorphic growth of HgTe on a CdTe substrate. Therefore, it is expected to be fully relaxed and has the band structure of bulk HgTe, i.e., a zero gap semiconductor. Nevertheless, since the bands inversion the two-dimensional (2D) topological surface states are still expected to exist. To check this claim we studied classical and quantum transport response of the system. We demonstrate that by tuning the top-gate voltage one can change the electron-dominating transport to the hole one. The highest electron mobility is found to be more than $300 \times 10^3$ cm$^2$/Vs. The system exhibits Shubnikov-de Haas (SdH) oscillations with a complicated pattern and shows up to 5 independent frequencies in corresponding Fourier spectra. They are attributed to the topological surface states, Volkov-Pankratov states and spin-degenerate bulk states in the accumulation layer near the gate. The observed peculiarities of the quantum transport are the strong SdH oscillations of the Hall resistance, and the suppressed oscillatory response of the topological surface states.

Autoren: M. L. Savchenko, D. A. Kozlov, N. N. Mikhailov, S. A. Dvoretsky, Z. D. Kvon

Letzte Aktualisierung: 2023-02-08 00:00:00

Sprache: English

Quell-URL: https://arxiv.org/abs/2302.04010

Quell-PDF: https://arxiv.org/pdf/2302.04010

Lizenz: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/

Änderungen: Diese Zusammenfassung wurde mit Unterstützung von AI erstellt und kann Ungenauigkeiten enthalten. Genaue Informationen entnehmen Sie bitte den hier verlinkten Originaldokumenten.

Vielen Dank an arxiv für die Nutzung seiner Open-Access-Interoperabilität.

Mehr von den Autoren

Ähnliche Artikel