Fortschritte bei den Makro-Platzierungstechniken für IC-Design
Neue Frameworks wie WireMask-BBO erkunden, um die Chipdesign-Effizienz zu verbessern.
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Inhaltsverzeichnis
In der modernen Elektronik ist das Design von integrierten Schaltkreisen (ICs) immer komplexer geworden, wegen der grösseren und leistungsstärkeren Chips. Ein wichtiger Aspekt dieses Designprozesses nennt sich Macro Placement. Dabei geht's darum, bedeutende Komponenten, die als Macros bekannt sind, auf einem Chip anzuordnen, damit sie effizient zusammenarbeiten und die Distanz zwischen ihnen minimiert wird.
Mit dem technologischen Fortschritt wächst die Grösse der Chips, was zu neuen Herausforderungen im Design führt. Ingenieure nutzen verschiedene Techniken, um diese Probleme zu lösen, darunter die Optimierung der genutzten Fläche, Minimierung des Energieverbrauchs und Sicherstellung, dass die Leistung des Chips den erforderlichen Standards entspricht.
Was sind Macros?
Macros sind grössere Bausteine auf einem Chip. Dazu können Elemente wie Speichereinheiten oder komplexe Logikfunktionen gehören, die spezielle Aufgaben erledigen. Jeder Chip enthält viele Macros und zahlreiche kleinere Teile, die Standardzellen genannt werden, das sind grundlegende Komponenten wie Logikgatter. Die richtige Platzierung dieser Macros ist entscheidend für die Gesamtwirksamkeit des Chips.
In der Macro Placement-Phase nehmen Designer Eingabedaten namens Netlist. Diese Netlist enthält Informationen über jedes Macro, einschliesslich seiner Grösse und der Verbindungen zu anderen Macros oder Standardzellen. Das Hauptziel des Macro Placements ist es, diese Komponenten so anzuordnen, dass die benötigten Verbindungen minimiert werden und sie sich nicht überlappen.
Herausforderungen beim Macro Placement
Die Platzierung von Macros bringt einige bedeutende Herausforderungen mit sich. Wenn die Anzahl der Komponenten auf einem Chip steigt, werden die Beziehungen zwischen ihnen komplexer. Diese Komplexität erfordert innovative Methoden, um sicherzustellen, dass das Design gut funktioniert und gleichzeitig strenge Regeln bezüglich Routing und Dichte eingehalten werden.
Ein grosses Problem ist das Potenzial für Überlappungen, die vermieden werden müssen. Überlappungen können während des Herstellungsprozesses zu Fehlern führen und könnten zu Fehlfunktionen im Endprodukt führen. Daher ist es entscheidend, dass jedes Macro eine eigene Position auf dem Chip einnimmt.
Traditionelle Methoden des Macro Placements
In der Vergangenheit haben Designer verschiedene Methoden für das Macro Placement verwendet. Hier sind einige gängige Ansätze:
Packungsbasierte Methoden
Bei packungsbasierten Methoden wird das Platzierungsproblem mit dem Packen von Gegenständen in eine Box verglichen. Jedes Macro wird als rechteckiges Objekt behandelt, das in einem definierten Bereich untergebracht werden muss. Diese Methoden nutzen oft Techniken wie simuliertes Annealing, bei dem zufällige Anpassungen am Layout vorgenommen werden, um eine bessere Anordnung zu finden. Diese Methoden können jedoch Schwierigkeiten haben, wenn das Problem grösser wird.
Analytische Methoden
Analytische Methoden gehen das Macro Placement mathematisch an. Sie versuchen, die Platzierungsaufgabe als kontinuierliches Optimierungsproblem zu lösen, was effizienter sein kann. Diese Methoden garantieren jedoch nicht, dass die Komponenten sich nicht überlappen, was ein wesentlicher Nachteil ist.
Methoden des Reinforcement Learning
Mit dem technologischen Fortschritt haben Methoden des Reinforcement Learning (RL) an Beliebtheit gewonnen. Bei diesen Ansätzen wird das Platzierungsproblem als Entscheidungsprozess betrachtet, bei dem ein Agent lernt, Komponenten auf einem Raster zu platzieren, bis alle Macros korrekt zugewiesen sind. Obwohl diese Methoden vielversprechend sind, können sie zu schnell konvergieren, was Raum für Verbesserungen lässt.
Ein neuer Ansatz: WireMask-BBO
Um die zuvor genannten Einschränkungen anzugehen, wurde ein neuer Rahmen namens WireMask-BBO eingeführt. Diese Methode kombiniert Black-Box-Optimierungstechniken mit einem wire-mask-guided Ansatz, um die Effizienz beim Macro Placement zu verbessern.
Hauptmerkmale von WireMask-BBO
Der WireMask-BBO-Rahmen ermöglicht eine bessere Erkundung potenzieller Lösungen. Im Gegensatz zu traditionellen Methoden, die komplexe Darstellungen verwenden, nutzt WireMask-BBO direkt die Koordinaten der Macros auf der Chip-Leinwand. Das Hauptziel ist es, die Halbumfangskabellänge zu minimieren, die ein Mass dafür ist, wie viel Verkabelung benötigt wird, um die Macros zu verbinden.
Ein entscheidender Aspekt dieses Rahmens ist der einzigartige Bewertungsprozess. Vor der Bewertung der Anordnung wird ein gieriger Ansatz verfolgt, um das Layout zu verbessern. Dabei wird die Position jedes Macros auf den nächstgelegenen besten Rasterstandort angepasst, basierend auf dem potenziellen Einfluss auf die Kabellänge.
Bewertung des Macro Placements
Um den Erfolg eines Macro Placements zu messen, werden verschiedene Metriken verwendet:
Halbumfangskabellänge (HPWL): Das ist die wichtigste Massnahme, da sie die Länge des benötigten Kabels zur Verbindung zwischen den Macros schätzt.
Überlastung: Diese Metrik hilft zu bestimmen, wie überfüllt ein bestimmter Bereich auf dem Chip ist, was die Herstellbarkeit beeinflussen kann.
Dichte: Hier wird untersucht, wie eng die Macros gepackt sind, und es wird angestrebt, eine gleichmässige Verteilung zu fördern.
Genutzte Fläche: Dies bezieht sich auf die Gesamtfläche, die benötigt wird, um alle Macros unterzubringen, und sollte minimiert werden.
Vorteile von WireMask-BBO
Der WireMask-BBO-Rahmen hat mehrere Vorteile gegenüber traditionellen Methoden gezeigt:
Verbesserte Leistung
WireMask-BBO wurde in verschiedenen Benchmark-Szenarien getestet und hat gezeigt, dass es Platzierungen erzeugt, die die bestehenden Methoden erheblich übertreffen. Es erzielt bessere Platzierungen in kürzeren Zeiträumen, was es für das schnelle Umfeld des Chipdesigns geeignet macht.
Flexibilität und Kompatibilität
Eine der herausragenden Eigenschaften von WireMask-BBO ist seine Flexibilität. Es kann mit verschiedenen bestehenden Methoden des Macro Placements als Nachbearbeitungsschritt kombiniert werden. Das bedeutet, dass jede anfängliche Anordnung, die durch andere Techniken erzeugt wurde, mit diesem Rahmen weiter verfeinert werden kann, was zu verbesserten Ergebnissen führt.
Effiziente Ressourcennutzung
Durch die Nutzung von Black-Box-Optimierung verbessert WireMask-BBO seine Fähigkeit, bessere Lösungen zu finden, ohne durch die Einschränkungen anderer Methoden gebremst zu werden. Das macht es zu einem leistungsstarken Werkzeug für Ingenieure, die ihre Chip-Designs effektiv optimieren wollen.
Anwendungen von WireMask-BBO in der Praxis
Mit dem technologischen Fortschritt wird die Notwendigkeit für optimiertes Macro Placement immer kritischer. WireMask-BBO kann in verschiedenen Anwendungen eine Schlüsselrolle spielen:
Smartphones und Unterhaltungselektronik
Bei der Gestaltung von Smartphones und anderen Unterhaltungselektronikgeräten müssen Chips mehr Funktionen bei begrenzter Grösse bewältigen. Mit WireMask-BBO kann sichergestellt werden, dass diese Chips effizient gestaltet sind und eine bessere Leistung bieten, ohne ihre physische Grösse zu erhöhen.
Automobilelektronik
Mit dem Aufkommen von vernetzten Fahrzeugen und autonomer Fahrtechnik ist die Nachfrage nach komplexen Chips enorm. WireMask-BBO kann die Platzierung von Komponenten in der Automobiltechnik erleichtern und die Gesamtleistung des Systems verbessern.
Rechenzentren
Rechenzentren benötigen leistungsstarke Chips für eine effiziente Datenverarbeitung. Durch die Optimierung der Macro-Platzierungen kann WireMask-BBO den Energieverbrauch reduzieren und die Rechenzentren nachhaltiger machen.
Fazit
Das Wachstum der Technologie integrierter Schaltkreise hat zahlreiche Herausforderungen im Chipdesign mit sich gebracht, insbesondere beim Macro Placement. Traditionelle Methoden sind zwar wertvoll, haben jedoch Einschränkungen, die die Effektivität des Designs beeinträchtigen können.
Die Einführung von WireMask-BBO bietet eine frische Perspektive, indem sie innovative Optimierungstechniken mit einem Fokus auf die Verbesserung von Leistung und Effizienz kombiniert. Indem sichergestellt wird, dass Macros optimal platziert werden, hat dieses Framework das Potenzial, eine Vielzahl von Anwendungen zu profitieren, von Unterhaltungselektronik bis hin zu fortschrittlichen Automobilsystemen.
Da sich die Branche weiterentwickelt, wird die Annahme solcher fortschrittlichen Methoden entscheidend sein, um komplexe Designanforderungen zu erfüllen und höhere Leistungsstandards in der Elektronikbranche zu erreichen.
Titel: Macro Placement by Wire-Mask-Guided Black-Box Optimization
Zusammenfassung: The development of very large-scale integration (VLSI) technology has posed new challenges for electronic design automation (EDA) techniques in chip floorplanning. During this process, macro placement is an important subproblem, which tries to determine the positions of all macros with the aim of minimizing half-perimeter wirelength (HPWL) and avoiding overlapping. Previous methods include packing-based, analytical and reinforcement learning methods. In this paper, we propose a new black-box optimization (BBO) framework (called WireMask-BBO) for macro placement, by using a wire-mask-guided greedy procedure for objective evaluation. Equipped with different BBO algorithms, WireMask-BBO empirically achieves significant improvements over previous methods, i.e., achieves significantly shorter HPWL by using much less time. Furthermore, it can fine-tune existing placements by treating them as initial solutions, which can bring up to 50% improvement in HPWL. WireMask-BBO has the potential to significantly improve the quality and efficiency of chip floorplanning, which makes it appealing to researchers and practitioners in EDA and will also promote the application of BBO. Our code is available at https://github.com/lamda-bbo/WireMask-BBO.
Autoren: Yunqi Shi, Ke Xue, Lei Song, Chao Qian
Letzte Aktualisierung: 2023-10-27 00:00:00
Sprache: English
Quell-URL: https://arxiv.org/abs/2306.16844
Quell-PDF: https://arxiv.org/pdf/2306.16844
Lizenz: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
Änderungen: Diese Zusammenfassung wurde mit Unterstützung von AI erstellt und kann Ungenauigkeiten enthalten. Genaue Informationen entnehmen Sie bitte den hier verlinkten Originaldokumenten.
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