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Messung der Wärmeleitfähigkeit in 10H-SiC Dünnfilmen

Eine Studie zeigt die thermischen Leitungseigenschaften von 10H-SiC-Dünnschichten für Hochtemperatureinsätze.

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Dünne Filme aus 10H-SiC (Siliziumkarbid) werden für Geräte eingehend untersucht, die in hohen Temperaturen und hohen Strahlungsumgebungen funktionieren müssen. Es ist wichtig, zu messen, wie gut diese Filme Wärme leiten, um diese Geräte zu entwickeln. Eine Methode, dies ohne Beschädigung der Filme zu tun, ist die sogenannte Raman-Thermometrie. Diese Technik nutzt ein Wärmeübertragungsmodell und hilft dabei, die Wärmeleitfähigkeit basierend auf der Dicke des Films und der Grösse des Lasers, der während des Tests verwendet wird, zu messen.

Bedeutung der Wärmeleitfähigkeitsmessung

Wärmeleitfähigkeit ist die Fähigkeit eines Materials, Wärme zu leiten. Zu verstehen, wie gut 10H-SiC Wärme leitet, hilft zu begreifen, wie es sich in der realen Anwendung verhält, insbesondere in Geräten, die unter extremen Bedingungen arbeiten. Traditionelle Methoden zur Messung der Wärmeleitfähigkeit können Proben beschädigen oder erfordern eine komplizierte Vorbereitung. Im Gegensatz dazu ist die Raman-Thermometrie eine nicht-invasive Technik, die sich gut für die Analyse von dünnen Filmen eignet, nachdem sie in Geräte integriert wurden.

Experimenteller Aufbau

In der Studie zu 10H-SiC-Dünnfilmen verwendeten die Forscher eine Methode namens RF-Magnetronsputtern, um die Filme auf saubere Siliziumsubstrate aufzubringen. Der Prozess umfasst mehrere Parameter wie Leistung, Zeit und Gasfluss. Durch Anpassung des Drucks in der Beschichtungsanlage wurden verschiedene Filmdicken erzeugt. Die Filme hatten eine Dicke von 104 nm, 135 nm und 156 nm.

Die Forscher verwendeten fortschrittliche Techniken wie Rasterelektronenmikroskopie mit Feldelektronenemission (FESEM), um die Dicke der Filme zu messen, und Röntgendiffraktion (XRD), um ihre kristallographischen Phasen zu identifizieren. Raman-Spektroskopie wurde eingesetzt, um zu untersuchen, wie die Filme auf Temperaturänderungen reagierten.

Kristallographische und morphologische Studien

Die Phase der aufgebrachten Filme wurde mittels Röntgendiffraktion identifiziert, indem die beobachteten Peaks mit bekannten Standards abgeglichen wurden. Das Vorhandensein bestimmter Peaks zeigte, dass die Filme tatsächlich 10H-SiC waren. Die Bilder von FESEM zeigten, dass die Filme glatt und gleichmässig über das Substrat verteilt waren, was die Qualität des Beschichtungsprozesses hervorhebt.

Methoden der Raman-Thermometrie

Die Raman-Thermometrie nutzt die Verschiebung der Raman-Peak-Positionen, um die thermischen Eigenschaften von Materialien zu bestimmen. Dazu wurden die Filme mit einem Laser erhitzt und beobachtet, wie sich die Raman-Peaks bei Temperaturänderungen verschoben. Die Forscher folgten einem bestimmten mathematischen Modell, das diese Beziehung berücksichtigt, und konzentrierten sich darauf, wie sowohl die lokale Wärme des Lasers als auch die Probenstärke die Wärmeleitfähigkeit beeinflussen.

Ergebnisse und Beobachtungen

Die Studie zeigte, dass der 156 nm dicke Film die besten Bedingungen zur Messung der Wärmeleitfähigkeit bot. Der heisse Film wurde verschiedenen Laserleistungen ausgesetzt, um die Veränderungen der Raman-Peak-Positionen in Bezug auf Temperaturänderungen zu beobachten. Mit steigender Temperatur wurden Verschiebungen der Raman-Peaks aufgezeichnet, die Änderungen der thermischen Eigenschaften anzeigten.

Die Analyse zeigte, dass mit zunehmender Filmdicke auch die Wärmeleitfähigkeit variierte, was auf eine Beziehung zwischen diesen beiden Faktoren hindeutet. Bei dem 156 nm dicken Film wurde die Wärmeleitfähigkeit mit 102,36 W/mK festgestellt. Diese Erkenntnis ist wichtig, da sie Einblicke gibt, wie gut 10H-SiC im Vergleich zu anderen Materialien Wärme leitet.

Vergleich mit früheren Studien

Während viele Studien sich auf gängigere SiC-Typen wie 3C oder 4H konzentriert haben, wurde dem höheren hexagonalen Typ 10H-SiC weniger Beachtung geschenkt. Frühere Forschungen haben gezeigt, dass die Wärmeleitfähigkeit von Bulk-SiC-Kristallen etwa 490 W/mK beträgt, während andere Verbundmaterialien niedrigere Werte zeigen, typischerweise zwischen 252 und 270 W/mK. Die aktuelle Studie liefert zum ersten Mal Werte für die Wärmeleitfähigkeit von phasenreinen 10H-SiC-Dünnfilmen.

Bedeutung für die Geräentwicklung

Die thermischen Eigenschaften von Materialien wie 10H-SiC sind entscheidend für die Entwicklung zuverlässiger Geräte, die unter widrigen Bedingungen funktionieren können. Zu verstehen, wie diese Materialien arbeiten, kann zu besseren Designs und verbesserter Funktionalität in Hochtemperaturanwendungen führen, wie z.B. in der Elektronik, die in der Luft- und Raumfahrt und der Nuklearindustrie eingesetzt wird.

Fazit

Die Studie hat erfolgreich die Wärmeleitfähigkeit von 10H-SiC-Dünnfilmen mit einer nicht-zerschmetternden Methode gemessen und damit den Weg für zukünftige Anwendungen in verschiedenen Bereichen geebnet. Die Ergebnisse betonen die Bedeutung der Filmdicke bei der Bestimmung der thermischen Eigenschaften und bieten ein grundlegendes Verständnis des Verhaltens des Materials unter realen Bedingungen.

Durch die nicht-invasive Raman-Thermometrie-Technik wurden wertvolle Einblicke in die Wärmeleitfähigkeit von 10H-SiC-Dünnfilmen gewonnen, was einen signifikanten Fortschritt im Bereich der Materialwissenschaften darstellt. Während die Forschung fortschreitet, könnten diese Erkenntnisse die Entwicklung fortschrittlicher Geräte unterstützen, die die einzigartigen Eigenschaften von Siliziumkarbid nutzen.

Originalquelle

Titel: Determination of Thermal Conductivity of phase pure 10H-SiC Thin Films by non-destructive Raman Thermometry

Zusammenfassung: 10 H SiC thin films are potential candidates for devices that can be used in high temperature and high radiation environment. Measurement of thermal conductivity of thin films by a non-invasive method is very useful for such device fabrication. Micro-Raman method serves as an important tool in this aspect and is known as Raman Thermometry. It utilises a steady-state heat transfer model in a semi-infinite half space and provides for an effective technique to measure thermal conductivity of films as a function of film thickness and laser spot size. This method has two limiting conditions i.e. thick film limit and thin film limit. The limiting conditions of this model was explored by simulating the model for different film thicknesses at constant laser spot size. 10H SiC films of three different thicknesses i.e. 104, 135 and 156 nm were chosen to validate the thin film limiting condition. It was found that the ideal thickness at which this method can be utilised for calculating thermal conductivity is 156 nm. Thermal conductivity of 156 nm film is found to be 102.385 $(Wm^{-1}K^{-1})$.

Autoren: Madhusmita Sahoo, Kalyan Ghosh, Swayamprakash Sahoo, Pratap K. Sahoo, Tom Mathews, Sandip Dhara

Letzte Aktualisierung: 2023-08-10 00:00:00

Sprache: English

Quell-URL: https://arxiv.org/abs/2308.05437

Quell-PDF: https://arxiv.org/pdf/2308.05437

Lizenz: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/

Änderungen: Diese Zusammenfassung wurde mit Unterstützung von AI erstellt und kann Ungenauigkeiten enthalten. Genaue Informationen entnehmen Sie bitte den hier verlinkten Originaldokumenten.

Vielen Dank an arxiv für die Nutzung seiner Open-Access-Interoperabilität.

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