Avancées dans les techniques d'assurance matérielle
Une nouvelle méthode améliore la mesure de l'épaisseur du silicium dans l'électronique.
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Table des matières
- Défis de l'assurance matériel
- Importance de la mesure d'épaisseur
- Flux de travail pour la mesure de l'épaisseur
- Techniques d'imagerie
- Cartes de contours et traitement d'images
- Simulation pour l'estimation de l'épaisseur
- Validation dans le monde réel
- Conclusion et directions futures
- Source originale
- Liens de référence
L'assurance matériel est super importante pour l'électronique, surtout pour s'assurer que les appareils ne sont pas trafiqués. C'est crucial aussi bien pour le gouvernement que pour l'industrie électronique. Les méthodes traditionnelles pour garantir la sécurité matérielle incluent des techniques comme l'Ingénierie inverse (RE) et la détection de chevaux de Troie (TS). Mais ces méthodes demandent souvent beaucoup de boulot manuel et peuvent prendre un temps fou, ce qui pousse à l'automatisation dans ces domaines.
Défis de l'assurance matériel
Quand on vérifie la sécurité des appareils électroniques, inspecter les composants physiques est essentiel. L'ingénierie inverse permet aux experts d'analyser complètement une puce, ce qui les aide à comprendre son fonctionnement et à vérifier son authenticité. Mais, cette méthode peut être vraiment longue et exigeante en main-d'œuvre. La détection de chevaux de Troie est plus rapide mais ne donne pas d'infos détaillées sur le fonctionnement de la puce.
Les deux méthodes peuvent rencontrer des soucis à cause des couches de matériaux dans les puces. Quand on enlève les couches, ça peut devenir difficile à gérer si elles n'ont pas toutes la même Épaisseur. Ça complique la garantie que le processus soit uniforme et précis.
Importance de la mesure d'épaisseur
Pour régler les problèmes potentiels lors du retrait des couches, il est crucial de mesurer l'épaisseur des différentes couches. La mesure en temps réel permet de faire des ajustements nécessaires pour maintenir un processus constant. Notre méthode proposée vise à mesurer l'épaisseur des couches de silicium restantes sur une puce après que certains de ses composants ont été retirés.
On utilise une combinaison d'Imagerie par faisceau d'électrons, de traitement d'image et de Simulations informatiques pour mesurer cette épaisseur avec précision et s'assurer que les couches peuvent être retirées uniformément.
Flux de travail pour la mesure de l'épaisseur
Le flux de travail pour mesurer l'épaisseur du silicium implique plusieurs étapes. La première étape est de préparer l'échantillon de puce pour l'imagerie. Ça inclut l'enlèvement de l'enveloppe extérieure et l'exposition de la puce de silicium pour observation. Des méthodes comme le polissage et la gravure peuvent être utilisées.
Une fois que la puce est visible, l'étape suivante est de l'affiner davantage pour révéler les couches internes. Ça nécessite des techniques précises pour que la surface soit aussi plate que possible. Une machine spécialement conçue pour l'ultra-amincissement peut être utilisée pour atteindre l'épaisseur désirée, mais il faut faire attention à ne pas endommager les transistors sur la puce.
Techniques d'imagerie
Après avoir atteint la bonne épaisseur, la puce est imagée avec un microscope spécialisé. Un scan rapide est essentiel pour capturer suffisamment de détails sans perdre trop de temps. La technique d'imagerie peut varier selon la tension utilisée, ce qui affecte la profondeur de pénétration des électrons dans l'échantillon, aidant à révéler différentes couches.
Des images peuvent être capturées en utilisant des électrons rétrodiffusés, ce qui aide à différencier plus efficacement les différents matériaux et couches. En analysant ces images, on peut identifier des différences dans l'épaisseur des couches, ce qui permet de créer une carte d'épaisseur pour la puce.
Cartes de contours et traitement d'images
Une fois les images collectées, l'étape suivante est de les traiter pour créer des cartes de contours. Ces cartes soulignent les zones avec une épaisseur similaire, rendant plus facile d'ajuster le processus de retrait si besoin.
Pour créer ces cartes de contours, les images sont recadrées pour se concentrer sur des zones spécifiques d'intérêt. Un filtre est appliqué pour réduire le bruit, suivi d'une méthode appelée segmentation par superpixels. Cette technique aide à identifier les différentes régions d'épaisseur selon le contraste observé dans les images.
Après ça, les contours sont lissés et corrigés pour tout bruit supplémentaire, ce qui donne une représentation plus précise de l'épaisseur sur la puce.
Simulation pour l'estimation de l'épaisseur
En plus de l'imagerie, on utilise des simulations informatiques pour estimer l'épaisseur selon les interactions du faisceau d'électrons avec le silicium. En utilisant des programmes logiciels établis, on peut modéliser comment les électrons se comportent en pénétrant le matériau.
Les simulations fournissent des insights précieux sur combien les électrons peuvent descendre, ce qui est crucial pour estimer l'épaisseur restante de silicium. La relation entre la tension utilisée et la profondeur de pénétration est explorée à travers de nombreux cas de test pour améliorer la précision de nos mesures.
Validation dans le monde réel
Pour vérifier la précision de nos méthodes, on a comparé l'épaisseur estimée obtenue par imagerie et simulation avec des mesures réelles faites avec un instrument commercial. Ce processus de validation est essentiel pour s'assurer que notre approche donne des résultats fiables. En collectant des données réelles d'épaisseur, on peut vérifier visuellement l'efficacité de nos méthodes.
Les résultats de notre validation ont montré une cohérence avec nos estimations antérieures, confirmant que nos techniques mesurent efficacement le silicium restant sur la puce.
Conclusion et directions futures
À travers ce processus, on a mis en lumière que l'épaisseur du silicium sur les puces ultra-amincies est inégale. Notre approche combine des techniques d'imagerie avancées et des simulations pour mieux comprendre et mesurer cette épaisseur. Pour améliorer notre précision, un travail supplémentaire pourrait impliquer de collecter plusieurs images et d'en faire la moyenne pour une mesure plus précise.
En avançant, on vise à étendre l'utilisation de nos résultats pour des ajustements en temps réel dans le processus de désépaississement. L'objectif ultime est de créer un système entièrement automatisé pour inspecter les appareils électroniques qui s'adapte en temps réel selon l'épaisseur des couches présentes.
En affinant nos méthodes, on peut améliorer la sécurité et la fiabilité des dispositifs électroniques, contribuant à l'intégrité et à la sécurité de la technologie moderne.
Titre: In-Situ Thickness Measurement of Die Silicon Using Voltage Imaging for Hardware Assurance
Résumé: Hardware assurance of electronics is a challenging task and is of great interest to the government and the electronics industry. Physical inspection-based methods such as reverse engineering (RE) and Trojan scanning (TS) play an important role in hardware assurance. Therefore, there is a growing demand for automation in RE and TS. Many state-of-the-art physical inspection methods incorporate an iterative imaging and delayering workflow. In practice, uniform delayering can be challenging if the thickness of the initial layer of material is non-uniform. Moreover, this non-uniformity can reoccur at any stage during delayering and must be corrected. Therefore, it is critical to evaluate the thickness of the layers to be removed in a real-time fashion. Our proposed method uses electron beam voltage imaging, image processing, and Monte Carlo simulation to measure the thickness of remaining silicon to guide a uniform delayering process
Auteurs: Olivia P. Dizon-Paradis, Nitin Varshney, M Tanjidur Rahman, Michael Strizich, Haoting Shen, Navid Asadizanjani
Dernière mise à jour: 2023-07-24 00:00:00
Langue: English
Source URL: https://arxiv.org/abs/2307.13118
Source PDF: https://arxiv.org/pdf/2307.13118
Licence: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
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