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Auswirkungen von Strahlung auf Siliziumkarbid

Untersuchen, wie Defekte durch Strahlung die thermischen Eigenschaften von Siliziumkarbid beeinflussen.

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Inhaltsverzeichnis

Siliziumcarbid, oder SiC, ist ein Halbleiter, der immer beliebter wird für den Einsatz in Leistungselektronik, die bei hohen Spannungen arbeiten muss. Er gilt als bessere Option im Vergleich zu älteren Halbleitermaterialien. Eine der Herausforderungen, mit denen SiC konfrontiert ist, ist die Strahlenexposition, besonders in Umgebungen wie dem Weltraum oder in Kernreaktoren. Wenn SiC von hochenergetischen Teilchen getroffen wird, können sich Defekte in seiner Struktur entwickeln. Diese Defekte können fehlende Atome, zusätzliche Atome oder Gruppen von Atomen umfassen, die nicht am richtigen Platz sind.

Das Problem mit Strahlenschäden

Wenn SiC Strahlung ausgesetzt ist, kann es zu sogenannten Verschiebungsschäden kommen. Diese Art von Schaden verändert die Struktur des Materials, indem mit der Zeit Defekte entstehen. Einige dieser Defekte können winzige Lücken (Vakanzen), zusätzliche Atome, die nicht richtig platziert sind (Interstitielle), oder Atompaare, die sich bewegen (Frenkel-Paare), sein. Diese Defekte können eine Reihe von Problemen in Geräten verursachen und beeinflussen, wie gut sie elektrischen Strom leiten, Ladungsträger bewegen und andere wichtige Eigenschaften aufweisen.

Wichtigkeit der Untersuchung der thermischen Eigenschaften

Ein wichtiger Forschungsbereich ist, wie diese Defekte die thermischen Eigenschaften des Materials beeinflussen, insbesondere seine Thermische Ausdehnung und seine Wärmekapazität. Thermische Ausdehnung beschreibt, wie viel sich ein Objekt beim Erhitzen ausdehnt. Die Wärmekapazität gibt an, wie viel Energie benötigt wird, um die Temperatur einer Substanz zu erhöhen. Es ist entscheidend, dass Materialien, die in der Elektronik verwendet werden, stabile thermische Eigenschaften haben, da Veränderungen zu Leistungsproblemen und sogar Schäden führen können.

Verwendung von Computersimulationen

Um zu untersuchen, wie Defekte die thermischen Eigenschaften von SiC verändern, nutzen Wissenschaftler Computersimulationen. Eine gängige Methode ist die Molekulardynamik (MD). Diese Methode hilft, zu simulieren, wie sich Atome bei unterschiedlichen Temperaturen und Defektlevels bewegen und interagieren. So können Forscher ein besseres Verständnis dafür gewinnen, wie sich SiC verhält, wenn es Defekte aufweist.

Einrichtung der Simulationen

In diesen Simulationen erstellen Forscher Modelle von SiC mit verschiedenen Defekten. Sie betrachten die thermische Ausdehnung und die Wärmekapazität bei unterschiedlichen Temperaturen, die von sehr kalt (200K) bis sehr heiss (1200K) reichen. Durch die Untersuchung verschiedener Defektkonzentrationen – wie 2 %, 4 % oder sogar 10 % – können die Forscher sehen, wie jeder Defekttyp die thermischen Eigenschaften beeinflusst.

Wichtige Erkenntnisse zur thermischen Ausdehnung

Vakanzen-Defekte

Bei der Betrachtung von Vakanzen-Defekten wurde festgestellt, dass sie die thermische Ausdehnung bis zu einer bestimmten Dichte nicht signifikant beeinflussen. Bei niedrigen Temperaturen verursachen diese Vakanzen sehr wenig Effekt. Wenn die Temperaturen steigen, insbesondere über 400K, kommt es jedoch zu einem spürbaren Rückgang der thermischen Ausdehnung. Bei sehr hohen Dichten, 8 % oder mehr, zeigt das Material Anzeichen von Schrumpfung anstelle von Ausdehnung, selbst wenn die Temperaturen steigen.

Interstitielle Defekte

Interstitielle Defekte verhalten sich etwas anders. Bei niedrigeren Konzentrationen können sie dazu führen, dass das Material weniger ausdehnt als reines SiC. Wenn die interstitiellen Konzentrationen steigen, neigt das Material dazu, übermässig auszudehnen, besonders bei höheren Temperaturen. Das bedeutet, dass mehr Energie benötigt wird, um die Temperatur von SiC zu erhöhen, wenn interstitielle Defekte vorhanden sind.

Frenkel-Paare

Frenkel-Paare haben den grössten Einfluss auf die thermische Ausdehnung unter allen Defektarten. Eine Erhöhung der Anzahl dieser Paare führt dazu, dass das Material im Vergleich zu reinem SiC weniger expandiert. Bei hohen Konzentrationen wird eine negative thermische Ausdehnung beobachtet, was bedeutet, dass das Material sich zusammenzieht, während die Temperatur steigt. Dieses Verhalten kann in elektronischen Anwendungen zu besonderen Herausforderungen führen.

Beobachtungen zur Wärmekapazität

Die Untersuchung der Wärmekapazität zeigte, dass mehr Defekte zu einer geringeren Fähigkeit führen, thermische Energie zu speichern. Zum Beispiel verringern Frenkel-Paare drastisch die benötigte Energie, um die Temperatur des Materials zu erhöhen, besonders wenn ihre Konzentration steigt. Bei Vakanzen ist der Rückgang milder. Diese Veränderung in der Wärmekapazität kann zu Problemen wie vorzeitigen Ausfällen in elektronischen Geräten führen.

Auswirkungen einer niedrigeren Wärmekapazität

Wenn die Wärmekapazität erheblich sinkt, bedeutet das, dass Materialien kritische Temperaturen schneller erreichen können. Das kann während des Betriebs schädlich sein, besonders in der Leistungselektronik, wo Überhitzung zu Ausfällen oder verringerter Effizienz führen kann. Zu verstehen, wie verschiedene Defekte die Wärmekapazität beeinflussen, hilft Ingenieuren, bessere, robustere Geräte für herausfordernde Umgebungen zu entwerfen.

Fazit

Zusammenfassend ist die Untersuchung, wie Defekte im Siliziumcarbid die thermischen Eigenschaften beeinflussen, entscheidend für die Verbesserung der Zuverlässigkeit elektronischer Geräte. Mit zunehmender Defektkonzentration zeigt das Material ungewöhnliche Verhaltensweisen, die in der realen Anwendung zu negativen Effekten führen können. Zu wissen, wie man mit diesen Eigenschaften umgeht, kann die Entwicklung besserer Materialien für hochbelastete Umgebungen, wie die im Weltraum oder in strahlenintensiven Bereichen, leiten.

Originalquelle

Titel: Negative thermal expansion coefficient and amorphization in defective 4H-SiC

Zusammenfassung: Silicon Carbide (SiC) is a wide bandgap semiconductor material recently being used in replacement of traditional semiconductors for high-voltage power device applications. Radiation environments induce defects through displacement damage in the lattice that can saturate over periods of high energy particle exposure at various concentrations. Defects are characterized by the formation of vacancies, interstitials and Frenkel pairs. Using molecular dynamics software we calculate thermal expansion coefficient (TEC) over and specific heat capacity at constant volume ($c_v$) values over a temperature range varying defect concentrations in single crystal 4H-SiC. At a discovered critical defect density amorphous defect clusters form in the lattice triggering macroscopic negative thermal expansion across the entire temperature range. Exponential $c_v$ loss is observed as defect density increases until the isothermal process becomes completely adiabatic at a identified critical Frenkel pair concentration. Providing insight to the degradation of SiC from displacement damage effects can ultimately assist the development of radiation-hardened electronics.

Autoren: Christopher Allen Grome

Letzte Aktualisierung: 2023-09-07 00:00:00

Sprache: English

Quell-URL: https://arxiv.org/abs/2309.03793

Quell-PDF: https://arxiv.org/pdf/2309.03793

Lizenz: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/

Änderungen: Diese Zusammenfassung wurde mit Unterstützung von AI erstellt und kann Ungenauigkeiten enthalten. Genaue Informationen entnehmen Sie bitte den hier verlinkten Originaldokumenten.

Vielen Dank an arxiv für die Nutzung seiner Open-Access-Interoperabilität.

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