シリコンダイオードに対する放射線の影響:研究
この記事は、放射線が異なる種類のシリコンダイオードにどのように影響するかを調べているよ。
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目次
シリコンは電子機器でよく使われる素材で、特にセンサーや検出器に多いんだ。これらのデバイスは放射線の影響を受けて性能が変わることがある。特にこの記事では、エピタキシャル(EPI)シリコンとチョクラルスキ(Cz)シリコンの2種類のシリコンで作られたダイオードに対する放射線の影響について話してるよ。
シリコンにおけるホウ素の役割
ホウ素はシリコンをドーピングするための重要な元素で、これによって余分な電荷キャリアが加わってシリコンの電気的特性が変わるんだ。でも、シリコンが放射線にさらされると、ホウ素が取り除かれたり「非活性化」されたりすることがあって、これがシリコンデバイスの性能に影響を与える。これを理解することがシリコン検出器の耐久性を高めるためには重要だね。
シリコンの放射線損傷
シリコンが放射線にさらされると、構造内に欠陥ができることがある。これらの欠陥は電荷キャリア-電子やホール-を捕まえてデバイスの性能を下げるんだ。この記事では、放射線曝露から生じる2種類の欠陥、ホウ素-酸素(B-O)複合体と炭素-酸素(C-O)複合体に注目してる。研究では、これらの欠陥が放射線とどのように相互作用するか、そしてその悪影響を最小限に抑えるために何ができるかを探ってるよ。
ダイオードの種類と製造
この研究で使われたダイオードはEPIシリコンとCzシリコンから作られてる。EPIシリコンは基板上に薄いシリコン層を成長させて作られ、Czシリコンは溶融シリコンから単結晶を引き上げて形成されるんだ。どちらのダイオードも異なる用途に適した特性があるけど、放射線曝露後に性能が劣化することはあるね。
調査方法
このダイオードに対する放射線の影響を調べるために、研究者たちは主に2つの技術、熱刺激電流(TSC)と熱刺激キャパシタンス(TS-Cap)を使ったんだ。この方法で、放射線を受けた後のシリコン材料の中での電荷キャリアの挙動を調べることができるよ。
放射線曝露と欠陥形成
この研究では、シリコンダイオードを特定のエネルギーの電子で放射線にさらしたんだ。その結果、特にB-OとC-O複合体という欠陥が形成された。放射線がシリコンと相互作用すると、ホウ素がこれらの欠陥複合体に変わることがあって、電荷キャリアを捕まえてダイオードの効率を下げるんだ。
炭素によるホウ素の除去への影響
シリコン中の炭素の存在は、放射線曝露中のホウ素の除去に影響を与えることがある。炭素はシリコン構造内でホウ素と位置を争うことがあって、これがダイオード全体の性能に影響を与えるかもしれない。研究では、シリコン中の炭素レベルを調整することで、放射線がホウ素ドーパントに与える悪影響を軽減できるかを検討してる。
実験設定
実験を行うために、チームは2種類のシリコンから作られたダイオードを準備した。それから、これらのダイオードを電子で照射して、TSCとTS-Cap方法を使ってその反応を測定したんだ。これによって、欠陥がどのように形成され、その欠陥がダイオードの電気特性にどんな影響を与えるかの情報を集めることができたよ。
デバイス性能の測定
ダイオードの性能は、電流-電圧(I-V)とキャパシタンス-電圧(C-V)測定を使って評価された。このテストで、漏れ電流、枯渇深さ、電荷キャリア濃度の変化が放射線量と温度に応じてどのようになっているかの洞察が得られたんだ。
結果の分析
I-VとC-V測定から集めたデータから、放射線がダイオードの性能に大きな影響を与えることが分かった。研究者たちは特に漏れ電流の変化に興味を持っていて、これはダイオードが放射線曝露後にどれだけその完全性を保てるかを示す指標なんだ。
欠陥の挙動理解
TSCとTS-Cap方法を使うことで、研究者たちはB-OとC-O欠陥複合体の挙動を詳細に分析できたよ。これらの欠陥が電荷キャリアを捕まえることができ、ダイオードの全体的な効果に影響を与えることが分かったんだ。
フルエンスが欠陥に及ぼす影響
フルエンスは放射線曝露の総量を指すんだ。この研究では、フルエンスが増えるほどシリコン内の欠陥濃度が高くなることが示された。この相関は、高放射線環境で動作するデバイスにおける放射線曝露の管理が重要だということを強調してる。
評価の課題
研究中に直面した課題の一つは、測定中のダイオードの部分的枯渇だった。この制限があったため、TSCデータだけに基づいて欠陥の濃度を正確に評価するのが難しかったんだ。
温度の役割
温度はシリコン内の電荷キャリアと欠陥の挙動に重要な役割を果たしてる。チームは温度変化がB-O欠陥からの電荷キャリアの放出にどのように影響を与えるか、そしてこれらの変化がダイオードの性能とどう関連しているかを探ったよ。
シミュレーション技術
放射線の影響や欠陥の挙動をよりよく理解するために、研究者たちはシミュレーションモデルを開発したんだ。このモデルは、さまざまな条件下でダイオードがどのように反応するかを予測するのに役立ち、実験データのより包括的な分析を可能にしたよ。
主な発見
この研究では、B-OとC-O欠陥複合体の導入がシリコンダイオードの性能に大きな影響を与えることが明らかになった。ホウ素と炭素の濃度を管理することが、これらのデバイスの放射線耐性を向上させるために重要だってことが分かったんだ。
今後の研究方向
欠陥、放射線、シリコンの特性間の相互作用についてまだ学ぶべきことがたくさんあるね。今後の研究では、シリコンの組成を最適化して放射線耐性を高めたり、高放射線環境でさらに良い性能を発揮できる代替材料を探求したりすることができるかもしれない。
結論
放射線がシリコンダイオードに与える影響を理解することは、耐久性のある効果的な電子デバイスを開発するために重要だね。この研究は、シリコン中のホウ素と炭素の濃度を管理することの重要性と、欠陥の挙動をよりよく理解しデバイス設計を改善するための先進的な測定技術の必要性を強調してるよ。
タイトル: Investigation of the Boron removal effect induced by 5.5 MeV electrons on highly doped EPI- and Cz-silicon
概要: This study focuses on the properties of the B$_\text{i}$O$_\text{i}$ (interstitial Boron~-~interstitial Oxygen) and C$_\text{i}$O$_\text{i}$ (interstitial Carbon~-~interstitial Oxygen) defect complexes by \SI{5.5}{\mega\electronvolt} electrons in low resistivity silicon. Two different types of diodes manufactured on p-type epitaxial and Czochralski silicon with a resistivity of about 10~$\Omega\cdot$cm were irradiated with fluence values between \SI{1e15}{\per\square\centi\meter} and \SI{6e15}{\per\square\centi\meter}. Such diodes cannot be fully depleted and thus the accurate evaluation of defect concentrations and properties (activation energy, capture cross-section, concentration) from Thermally Stimulated Currents (TSC) experiments alone is not possible. In this study we demonstrate that by performing Thermally Stimulated Capacitance (TS-Cap) experiments in similar conditions to TSC measurements and developing theoretical models for simulating both types of B$_\text{i}$O$_\text{i}$ signals generated in TSC and TS-Cap measurements, accurate evaluations can be performed. The changes of the position-dependent electric field, the effective space charge density $N_\text{eff}$ profile as well as the occupation of the B$_\text{i}$O$_\text{i}$ defect during the electric field dependent electron emission, are simulated as a function of temperature. The macroscopic properties (leakage current and $N_\text{eff}$) extracted from current-voltage and capacitance-voltage measurements at \SI{20}{\celsius} are also presented and discussed
著者: Chuan Liao, Eckhart Fretwurst, Erika Garutti, Joern Schwandt, Leonid Makarenko, Ioana Pintilie, Lucian Dragos Filip, Anja Himmerlich, Michael Moll, Yana Gurimskaya, Zheng Li
最終更新: 2023-06-26 00:00:00
言語: English
ソースURL: https://arxiv.org/abs/2306.14736
ソースPDF: https://arxiv.org/pdf/2306.14736
ライセンス: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
変更点: この要約はAIの助けを借りて作成されており、不正確な場合があります。正確な情報については、ここにリンクされている元のソース文書を参照してください。
オープンアクセスの相互運用性を利用させていただいた arxiv に感謝します。
参照リンク
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