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# Fisica# Scienza dei materiali

Studiare la diffusione del tungsteno nei materiali di Van der Waals

Approfondimenti sul movimento degli atomi di tungsteno nei materiali stratificati e le sue implicazioni.

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Indice

La Diffusione, o il movimento degli atomi, gioca un ruolo fondamentale in molti processi nei materiali. Questo include cambiamenti di fase, drogaggio e interazione nei materiali di Van Der Waals (vdW), che sono un tipo di materiale stratificato tenuto insieme da forze deboli. In questo articolo, parliamo di come abbiamo studiato la diffusione degli atomi di tungsteno (W) nei materiali vdW osservando il loro movimento a diverse interfacce che coinvolgono l'azoto boronico (BN) e il diseleniuro di tungsteno (WSe) usando una tecnica di imaging speciale.

Contesto

I materiali di van der Waals sono composti da strati che possono scivolare facilmente l'uno sull'altro. Questa proprietà unica consente varie applicazioni in elettronica e altri settori. Il movimento degli atomi all'interno di questi materiali è influenzato da Difetti o imperfezioni, che possono intrappolare gli atomi e influenzare il loro comportamento complessivo.

Ci siamo concentrati sulla diffusione degli atomi di W attraverso tre diverse interfacce:

  1. BN/vacuum
  2. BN/BN
  3. BN/WSe

Visualizzando direttamente gli atomi utilizzando immagini ad alta risoluzione, abbiamo ottenuto informazioni su come si muovono, come i difetti influenzano i loro percorsi e quali fattori influenzano la loro diffusione.

Metodi

Per studiare la diffusione degli atomi di W, abbiamo creato eterostrutture che contenevano monostrati di WSe con sottili strati di BN. I cristalli di WSe erano più piccoli delle lastre di BN, permettendoci di incorporare parti di WSe all'interno degli strati di BN. Questa configurazione ci ha aiutato a osservare il movimento degli atomi di W rilasciati dal WSe.

Utilizzando la microscopia elettronica a scansione a trasmissione (STEM), abbiamo registrato immagini ad alta risoluzione nel tempo. Questo strumento ci ha permesso di vedere singoli atomi di W e tenere traccia dei loro movimenti a diverse interfacce.

Osservazioni del Movimento Atomico

Interfaccia BN/WSe

All'interfaccia BN/WSe, abbiamo prima osservato gli atomi di W rilasciati dalla rete di WSe. Questo rilascio iniziava spesso con la formazione di vuoti, o posti vuoti, nella rete a causa del fascio di elettroni usato nell'imaging. Una volta rilasciati, gli atomi di W si muovevano tra gli strati di BN e all'interfaccia.

Tracciando questi atomi, abbiamo visto che potevano posizionarsi su diversi tipi di siti di rete, comprese le posizioni di W e di Se. Curiosamente, gli atomi di W sembravano preferire determinate posizioni in base ai difetti circostanti. Questo suggerisce che la qualità del cristallo possa influenzare la facilità con cui gli atomi si muovono.

Interfaccia BN/BN

Osservando l'interfaccia BN/BN, abbiamo scoperto che gli atomi di W si staccavano dal bordo di WSe e si diffondevano negli strati di BN. Gli atomi facevano movimenti più piccoli attorno a siti specifici, con meno movimenti più grandi tra questi siti.

Abbiamo notato che gli atomi di W risiedevano tipicamente sulla rete di moiré, che è un tipo di schema ripetitivo creato dagli strati sovrapposti. La struttura degli strati di BN e la presenza di difetti dettavano i siti di riposo preferiti per gli atomi di W.

Interfaccia BN/Vacuum

All'interfaccia BN/vacuum, il comportamento degli atomi di W era leggermente diverso. Questi atomi venivano tracciati sulla superficie libera di BN e mostrano una tendenza ad aggregarsi in aree specifiche. Questo portava alla formazione di una struttura che appariva più tridimensionale rispetto al comportamento bidimensionale osservato nel bordo di WSe incapsulato.

La diffusione degli atomi di W a questa interfaccia aveva anche una mobilità più bassa. Questo potrebbe essere dovuto alla presenza di contaminazioni dall'ambiente, che possono ostacolare il movimento degli atomi sulla superficie.

Comportamento Dipendente dal Tempo

Man mano che continuavamo le nostre osservazioni, notavamo cambiamenti nelle proprietà di diffusione degli atomi di W nel tempo. All'interfaccia BN/BN, il tasso di diffusione diminuiva significativamente. Questo era attribuito alla crescente presenza di difetti causati dall'esposizione continua al fascio di elettroni.

Al contrario, i tassi di diffusione nelle altre due interfacce rimanevano relativamente stabili. Questo indica che gli effetti del fascio di elettroni e i difetti risultanti nel materiale giocano un ruolo significativo nel movimento degli atomi.

Fattori che Influenzano la Diffusione

Difetti

I difetti nella struttura cristallina influenzano significativamente i percorsi che gli atomi di W prendono durante la diffusione. Quando sono presenti difetti, possono intrappolare gli atomi, facendoli rimanere più a lungo in luoghi specifici. Questo intrappolamento influisce sul coefficiente di diffusione complessivo, che è una misura di quanto velocemente gli atomi possano muoversi.

Qualità del Cristallo

La qualità della struttura cristallina impatta anche la diffusione. Cristalli di alta qualità con meno difetti permettono un movimento più facile degli atomi. Al contrario, cristalli con molti difetti portano a tassi di diffusione più lenti. Le osservazioni hanno mostrato che gli atomi di W erano più mobili in aree più pulite e meno difettate del materiale.

Temperatura

La temperatura può anche giocare un ruolo nel comportamento di diffusione. Temperature più elevate di solito aumentano il movimento atomico, mentre temperature basse possono ridurre la mobilità. Esperimenti futuri potrebbero essere progettati per studiare come le variazioni di temperatura influenzano la diffusione degli atomi di W nei materiali vdW.

Implicazioni per il Design dei Materiali

I risultati del nostro studio hanno importanti implicazioni per il design di materiali utilizzati in varie applicazioni. Comprendendo i fattori che influenzano il movimento atomico, come difetti e qualità del cristallo, scienziati e ingegneri possono meglio controllare e ottimizzare le proprietà dei materiali per usi specifici.

Potenziali Applicazioni

  1. Elettronica: Una comprensione migliorata della diffusione potrebbe portare allo sviluppo di dispositivi elettronici migliori che dipendono dal movimento preciso degli atomi.

  2. Stoccaggio di Energia: In dispositivi come batterie e condensatori, controllare il movimento atomico può aumentare l'efficienza energetica e la capacità di stoccaggio.

  3. Nanoingegneria: La capacità di manipolare la diffusione atomica in materiali su piccola scala può aprire nuove strade per creare materiali su misura con proprietà personalizzate.

Direzioni Future

Questo lavoro getta le basi per ulteriori indagini sul movimento atomico in altri materiali. Potenziali studi futuri potrebbero includere:

  • Esaminare altri tipi di atomi, come tantalio (Ta) o platino (Pt), per vedere come la loro diffusione si confronta con quella di W.

  • Utilizzare materiali 2D diversi per incapsulare gli atomi di W e studiare come la scelta del materiale influisce sulla diffusione.

  • Investigare come la corrente elettrica potrebbe influenzare il movimento atomico e le interazioni nei materiali vdW.

Conclusione

La ricerca ha fornito preziose intuizioni sui processi di diffusione degli atomi di W nei materiali di van der Waals. Visualizzando direttamente i movimenti atomici e le loro interazioni, abbiamo dimostrato che la diffusione è significativamente influenzata dalla presenza di difetti e dalla qualità dei cristalli. Man mano che avanziamo nella comprensione di questi processi, possiamo sviluppare strategie per manipolare i comportamenti atomici per un design materiale migliorato e applicazioni in vari campi tecnologici.

Fonte originale

Titolo: Direct visualization of defect-controlled diffusion in van der Waals gaps

Estratto: Diffusion processes govern fundamental phenomena such as phase transformations, doping, and intercalation in van der Waals (vdW) bonded materials. Here, we quantify the diffusion dynamics of W atoms by visualizing the motion of individual atoms at three different vdW interfaces: BN/vacuum, BN/BN, and BN/WSe2, by recording scanning transmission electron microscopy movies. Supported by density functional theory calculations, we infer that in all cases diffusion is governed by intermittent trapping at electron beam-generated defect sites. This leads to diffusion properties that depend strongly on the number of defects. These results suggest that diffusion and intercalation processes in vdW materials are highly tunable and sensitive to crystal quality. The demonstration of imaging, with high spatial and temporal resolution, of layers and individual atoms inside vdW heterostructures offers possibilities for direct visualization of diffusion and atomic interactions, as well as for experiments exploring atomic structures, their in-situ modification, and electrical property measurements of active devices combined with atomic resolution imaging.

Autori: Joachim Dahl Thomsen, Yaxian Wang, Henrik Flyvbjerg, Eugene Park, Kenji Watanabe, Takashi Taniguchi, Prineha Narang, Frances M. Ross

Ultimo aggiornamento: 2024-08-03 00:00:00

Lingua: English

URL di origine: https://arxiv.org/abs/2403.02494

Fonte PDF: https://arxiv.org/pdf/2403.02494

Licenza: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/

Modifiche: Questa sintesi è stata creata con l'assistenza di AI e potrebbe presentare delle imprecisioni. Per informazioni accurate, consultare i documenti originali collegati qui.

Si ringrazia arxiv per l'utilizzo della sua interoperabilità ad accesso aperto.

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