Avanços em Técnicas de Garantia de Hardware
Um novo método melhora a medição da espessura de silício na eletrônica.
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Índice
A garantia de hardware é super importante pra eletrônicos, principalmente pra garantir que os dispositivos não sejam adulterados. Isso é crucial tanto pro governo quanto pra indústria eletrônica. Métodos tradicionais pra garantir a segurança do hardware incluem técnicas como Engenharia Reversa (RE) e varredura de trojans (TS). Mas, muitas vezes, esses métodos precisam de trabalho manual e podem demorar muito, levando a uma busca por automação nessas áreas.
Desafios na Garantia de Hardware
Quando a segurança dos eletrônicos é checada, inspecionar os componentes físicos é fundamental. A engenharia reversa permite que especialistas analisem um chip completamente, ajudando a entender como ele funciona e a verificar sua autenticidade. No entanto, esse método pode ser bem lento e trabalhoso. A varredura de trojans é mais rápida, mas não fornece informações detalhadas sobre como o chip opera.
Ambos os métodos podem enfrentar problemas devido às camadas de materiais nos chips. Quando as camadas são removidas, podem ser difíceis de manusear se não tiverem a mesma Espessura. Isso pode dificultar garantir que o processo seja uniforme e preciso.
Importância da Medição de Espessura
Pra lidar com problemas potenciais durante a remoção das camadas, é essencial medir quão grossas são as diferentes camadas. A medição em tempo real permite fazer ajustes conforme necessário pra manter um processo consistente. O nosso método proposto visa medir a espessura das camadas de silício que ficam em um chip depois que alguns de seus componentes foram removidos.
A gente usa uma combinação de imagem com feixe de elétrons, processamento de imagem e simulações em computador pra medir essa espessura com precisão e garantir que as camadas possam ser removidas uniformemente.
Fluxo de Trabalho para Medição de Espessura
O fluxo de trabalho pra medir a espessura do silício envolve várias etapas. A primeira etapa é preparar a amostra do chip pra imagem. Isso inclui remover o revestimento externo e expor o chip de silício pra observação. Métodos como polimento e gravação podem ser usados pra isso.
Uma vez que o chip tá visível, a próxima etapa é afiná-lo ainda mais pra revelar as camadas internas. Isso exige técnicas precisas pra garantir que a superfície fique o mais plana possível. Uma máquina projetada especificamente pra ultrafinação pode ser usada pra atingir a espessura desejada, mas é preciso ter cuidado pra não danificar os transistores do chip.
Técnicas de Imagem
Depois de conseguir a espessura correta, o chip é imagedo usando um microscópio especializado. A varredura rápida é essencial pra capturar detalhes suficientes sem demorar muito. A técnica de imagem pode variar com base na voltagem usada, o que afeta a profundidade da penetração dos elétrons na amostra, ajudando a revelar diferentes camadas.
Imagens podem ser capturadas usando elétrons retroespalhados, que ajudam a diferenciar entre vários materiais e camadas de forma mais eficaz. Analisando essas imagens, é possível identificar diferenças na espessura das camadas, levando à criação de um mapa de espessura pro chip.
Mapas de Contorno e Processamento de Imagem
Depois que as imagens são coletadas, o próximo passo é processá-las pra criar mapas de contorno. Esses mapas destacam áreas com espessura semelhante, facilitando ajustes no processo de remoção conforme necessário.
Pra criar esses mapas de contorno, as imagens são recortadas pra focar em áreas específicas de interesse. Um filtro é aplicado pra reduzir ruídos, seguido de uma técnica chamada segmentação de superpixels. Essa técnica ajuda a identificar diferentes regiões de espessura com base no contraste visto nas imagens.
Depois disso, os contornos são suavizados e corrigidos de qualquer ruído adicional, resultando em uma representação mais precisa da espessura por todo o chip.
Simulação pra Estimativa de Espessura
Além da imagem, a gente usa simulações em computador pra estimar a espessura com base nas interações do feixe de elétrons com o silício. Usando programas de software estabelecidos, podemos modelar como os elétrons se comportam ao penetrar no material.
As simulações oferecem insights valiosos sobre quão profundamente os elétrons podem ir, o que é crucial pra estimar a espessura restante do silício. A relação entre a voltagem usada e a profundidade de penetração é explorada através de vários casos de teste pra aumentar a precisão das nossas medições.
Validação no Mundo Real
Pra checar a precisão dos nossos métodos, comparamos a espessura estimada obtida da imagem e da simulação com medições reais feitas usando um instrumento comercial. Esse processo de validação é essencial pra garantir que nossa abordagem forneça resultados confiáveis. Coletando dados reais de espessura, conseguimos verificar visualmente a efetividade dos nossos métodos.
Os resultados da nossa validação mostraram consistência com nossas estimativas anteriores, confirmando que nossas técnicas medem efetivamente o silício restante no chip.
Conclusão e Direções Futuras
Através desse processo, destacamos que a espessura do silício em chips ultra afinados é desigual. Nossa abordagem combina imagens avançadas e simulações pra entender e medir melhor essa espessura. Pra melhorar a nossa precisão, um trabalho futuro pode envolver coletar várias imagens e fazer uma média dos resultados para uma medição mais precisa.
À medida que avançamos, nosso objetivo é expandir o uso das nossas descobertas pra ajustes em tempo real no processo de remoção de camadas. O objetivo final é criar um sistema totalmente automatizado pra inspecionar eletrônicos que se adapta em tempo real com base na espessura das camadas presentes.
Aperfeiçoando nossos métodos, podemos aumentar a segurança e a confiabilidade dos dispositivos eletrônicos, contribuindo pra integridade e segurança da tecnologia moderna.
Título: In-Situ Thickness Measurement of Die Silicon Using Voltage Imaging for Hardware Assurance
Resumo: Hardware assurance of electronics is a challenging task and is of great interest to the government and the electronics industry. Physical inspection-based methods such as reverse engineering (RE) and Trojan scanning (TS) play an important role in hardware assurance. Therefore, there is a growing demand for automation in RE and TS. Many state-of-the-art physical inspection methods incorporate an iterative imaging and delayering workflow. In practice, uniform delayering can be challenging if the thickness of the initial layer of material is non-uniform. Moreover, this non-uniformity can reoccur at any stage during delayering and must be corrected. Therefore, it is critical to evaluate the thickness of the layers to be removed in a real-time fashion. Our proposed method uses electron beam voltage imaging, image processing, and Monte Carlo simulation to measure the thickness of remaining silicon to guide a uniform delayering process
Autores: Olivia P. Dizon-Paradis, Nitin Varshney, M Tanjidur Rahman, Michael Strizich, Haoting Shen, Navid Asadizanjani
Última atualização: 2023-07-24 00:00:00
Idioma: English
Fonte URL: https://arxiv.org/abs/2307.13118
Fonte PDF: https://arxiv.org/pdf/2307.13118
Licença: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
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