Avances en la tecnología de transistores MIV para chips 3D
Un nuevo diseño de transistor MIV mejora el rendimiento en circuitos integrados 3D.
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Tabla de contenidos
- El desafío del área adicional
- Un nuevo enfoque: el MIV-transistor
- La importancia de la integración vertical
- Desafíos con las técnicas actuales
- Características de la integración 3D monolítica
- El papel del MIV en los M3D-ICs
- Área adicional y rendimiento
- El MIV-transistor de puerta extendida
- Características del dispositivo
- Resultados de simulación
- Circuitos construidos con MIV-transistor
- Resultados de simulación transitoria
- Rendimiento del oscilador anillo M3D
- Conclusión
- Fuente original
La integración 3D monolítica es un enfoque emocionante para construir chips de computadora que cumplen con la creciente demanda de computación. Este método implica apilar capas de materiales muy delgados para crear circuitos más compactos y eficientes. Una parte esencial de esta técnica es un componente llamado vía inter-capa metálica (MIV), que conecta estas capas. Sin embargo, aunque los MIV son pequeños, pueden ocupar un espacio valioso, lo que puede limitar la eficiencia del proceso de integración general.
El desafío del área adicional
En esfuerzos previos por mejorar la integración 3D, los investigadores intentaron reducir el espacio que ocupaban los MIV usando el área a su alrededor para funciones adicionales. Si bien estos intentos disminuyeron el área adicional, también llevaron a un aumento de la fuga de energía y dificultades para escalar los dispositivos. La fuga de energía se refiere al flujo no deseado de corriente que ocurre incluso cuando un dispositivo se supone que está apagado, lo que lleva a un desperdicio de energía y calor.
Un nuevo enfoque: el MIV-transistor
Para abordar estos problemas, se ha desarrollado un nuevo tipo de MIV-transistor. Este diseño busca minimizar los desafíos de fuga y escalado mientras se mantiene bajo el área adicional. Al usar este nuevo MIV-transistor, se pueden lograr mejoras en el rendimiento, como menor consumo de energía y operación más rápida en comparación con diseños anteriores.
La importancia de la integración vertical
En los últimos años, los métodos de integración vertical han surgido como una mejor alternativa a simplemente hacer los transistores más pequeños. La escala 2D tradicional puede llevar a limitaciones en rendimiento y eficiencia. Sin embargo, al integrar circuitos verticalmente, se puede ahorrar más área, y se puede reducir la necesidad de un enrutamiento extenso de conexiones entre diferentes partes del chip.
Desafíos con las técnicas actuales
La mayoría de las técnicas de integración vertical existentes procesan capas a través del uso de Vías a través del Silicio (TSVs), que también conectan estas capas. Desafortunadamente, los TSV ocupan mucho espacio y pueden limitar la efectividad de la integración vertical. Como resultado, se están explorando técnicas más nuevas, como la integración 3D monolítica.
Características de la integración 3D monolítica
Los circuitos integrados tridimensionales monolíticos (M3D-ICS) se hacen apilando capas muy delgadas de materiales, generalmente entre 7 nm y 100 nm de grosor. Este proceso se realiza a bajas temperaturas para mantener la estabilidad de los dispositivos en la capa inferior. Innovaciones recientes muestran que es posible implementar M3D-ICs de manera efectiva, incluso cuando hay restricciones térmicas estrictas.
El papel del MIV en los M3D-ICs
El MIV juega un papel crucial al conectar diferentes capas en la tecnología M3D-IC. Con la reducción en el grosor de los MIV para que coincida con los tamaños estándar de las celdas, la integración de M3D-ICs se ha vuelto más eficiente. Esto ha llevado a una mejor alineación, mayor densidad de conexiones y menos enrutamiento necesario para interconectar circuitos. Una predicción para diseños que usan reglas de 14 nm sugiere que la densidad de MIV podría superar los 100 millones/mm².
Área adicional y rendimiento
A medida que aumenta la densidad de MIV, el espacio que ocupan puede convertirse en una preocupación. El acoplamiento con dispositivos cercanos puede afectar significativamente su rendimiento, lo que requiere una zona de protección alrededor de los MIV para mitigar estos efectos.
Investigaciones previas han buscado reducir el área adicional usando el espacio alrededor de los MIV para crear componentes adicionales. Por ejemplo, los MIV pueden ser utilizados tanto como interconexiones como terminales para dispositivos, como capacitores y transistores. Un método mostró que usar un MIV-transistor para inversores podría ahorrar un 24% del área utilizada. Sin embargo, los diseños anteriores enfrentaron problemas de escalabilidad debido a anchos restringidos y un aumento de la corriente de fuga.
El MIV-transistor de puerta extendida
Para mejorar la situación, se ha introducido un MIV-transistor de puerta extendida. Este nuevo modelo mejora el control sobre el canal, reduciendo la fuga y facilitando el escalado del diseño para ajustarse a requisitos específicos.
Contribuciones clave
- Introducción de un MIV-transistor de doble propósito con puerta extendida.
- Demostración de su efectividad en procesos M3D-IC.
- Estudio de modelos de inversores utilizando este MIV-transistor, junto con pruebas adicionales en un circuito oscilador anillo.
Características del dispositivo
La estructura del MIV-transistor de puerta extendida está diseñada para proporcionar un mejor control sobre el canal. Los diseños anteriores no aprovecharon completamente la extensión del gate a través de la región del canal, lo que obstaculizó la escalabilidad y aumentó la fuga.
En simulaciones, el nuevo modelo mostró mejoras significativas en características. Por ejemplo, se midieron el voltaje umbral y la corriente de drenaje máxima, demostrando un mejor rendimiento en comparación con modelos anteriores.
Resultados de simulación
Simulaciones comparativas entre el MIV-transistor de puerta extendida y modelos anteriores destacan los beneficios del nuevo diseño. El rendimiento del MIV-transistor de tipo n fue particularmente notable. A medida que se modificaron ciertos parámetros, el modelo de puerta extendida demostró mantener un mejor control y exhibió corrientes de fuga más bajas.
Circuitos construidos con MIV-transistor
Utilizando el MIV-transistor, se desarrolló un modelo de Inversor para evaluar el rendimiento a nivel de circuito. El diseño utiliza un proceso de dos capas, integrando tanto transistores de tipo p como de tipo n.
En esta configuración, el MIV conecta diferentes capas, permitiendo una comunicación fluida entre ellas. Fue vital evaluar cómo el MIV impacta el rendimiento de los dispositivos circundantes. Se designó un área alrededor del MIV para minimizar la interferencia con circuitos cercanos.
Resultados de simulación transitoria
Una serie de pruebas midieron los indicadores clave de rendimiento del diseño del inversor utilizando un MIV-transistor de puerta extendida. Los resultados indicaron cambios menores en las mediciones de tiempo, con un enfoque específico en los tiempos de subida y bajada de la señal de salida.
Los retrasos de propagación también mostraron mejoras. Al comparar ambos diseños, quedó claro que el nuevo MIV-transistor logró mejores resultados en consumo de energía manteniendo el mismo área en silicio.
Rendimiento del oscilador anillo M3D
Un diseño de oscilador anillo utilizó tres etapas del inversor M3D vinculadas en un bucle de retroalimentación. Cada inversor siguió los mismos principios de diseño M3D utilizados en pruebas anteriores. Se registraron métricas de rendimiento, incluyendo frecuencia y consumo de energía.
Los resultados para el diseño de puerta extendida mostraron mejoras sustanciales en eficiencia en comparación con modelos más antiguos, incluso a medida que variaban las tasas de oscilación. También se notó que el consumo de energía aumentaba en comparación con diseños anteriores, pero los beneficios en otras áreas demostraron ser valiosos.
Conclusión
Este documento destaca la efectividad de extender la región de control de los MIV-transistores para satisfacer las necesidades modernas de computación. El diseño de puerta extendida reduce significativamente la fuga y mejora el rendimiento general para M3D-Inversores y osciladores anillo.
Sin área adicional, el nuevo diseño de MIV-transistor muestra características mejoradas en comparación con modelos anteriores. Esta innovación es un paso adelante en la creación de chips de computadora más eficientes y potentes que puedan manejar demandas futuras.
Al enfocarse en los beneficios de los MIV-transistores y los avances en tecnologías de integración 3D, este trabajo ofrece valiosas ideas sobre cómo mejorar la arquitectura de las computadoras. Sienta las bases para investigaciones y desarrollos continuos en este campo en rápida evolución.
Título: Efficient and Scalable MIV-transistor with Extended Gate in Monolithic 3D Integration
Resumen: Monolithic 3D integration has become a promising solution for future computing needs. The metal inter-layer via (MIV) forms interconnects between substrate layers in Monolithic 3D integration. Despite small size of MIV, the area overhead can become a major limitation for efficient M3D integration and, thus needs to be addressed. Previous works focused on the utilization of the substrate area around MIV to reduce this area overhead significantly but suffers from increased leakage and scaling factors. In this work, we discuss MIV-transistor realization that addresses both leakage and scaling issue along with similar area overhead reduction compared with previous works and, thus can be utilized efficiently. Our simulation results suggest that the leakage current $(I_{D,leak})$ has reduced by $14K\times$ and, the maximum current $(I_{D,max})$ increased by $58\%$ for the proposed MIV-transistor compared with the previous implementation. In addition, performance metrics of the inverter realization with our proposed MIV-transistor specifically the delay, slew time and power consumption reduced by $11.6\%$, $17.9\%$ and, $4.5\%$ respectively compared with the previous implementation with same MIV area overhead reduction.
Autores: Madhava Sarma Vemuri, Umamaheswara Rao Tida
Última actualización: 2023-06-24 00:00:00
Idioma: English
Fuente URL: https://arxiv.org/abs/2306.14033
Fuente PDF: https://arxiv.org/pdf/2306.14033
Licencia: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
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