Proprietà di trasporto di spesse pellicole di tellururo di mercurio
Esaminando le caratteristiche elettriche di un film di HgTe di 1000 nm.
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Indice
In questo articolo, parleremo delle proprietà di trasporto di uno strato spesso di tellururo di mercurio (HgTe) spesso 1000 nm. Questo materiale è stato studiato per molti anni grazie alle sue caratteristiche eletriche uniche. I film di HgTe possono mostrare comportamenti diversi a seconda dello spessore e della struttura del materiale.
Di solito, le versioni più sottili dei film di HgTe sono state riconosciute per la loro capacità di funzionare come isolanti topologici tridimensionali (3D). Questo significa che permettono a certi tipi di corrente elettrica di fluire sulle loro superfici mentre la bloccano all'interno. Tuttavia, il film di HgTe più spesso di cui stiamo parlando qui è previsto avere caratteristiche diverse a causa delle sue dimensioni; si prevede che sia completamente rilassato e si comporti più come il materiale massiccio, noto come semiconduttore a zero gap.
Caratteristiche principali del materiale
Nonostante sia un film spesso, si crede che gli stati di superficie esistano ancora. Questi stati di superficie sono spesso legati a interessanti proprietà elettriche. Abbiamo studiato come cambiare la tensione sul gate superiore del film influisce sul flusso di corrente elettrica e come possa passare principalmente dal permettere agli elettroni o ai buchi di condurre elettricità.
Mobilità degli elettroni e conducibilità
Una delle scoperte più importanti è stata che la mobilità degli elettroni-quanto facilmente gli elettroni possono muoversi attraverso il materiale-era molto alta, superando certi valori (anche se non specificheremo i numeri esatti). Questo suggerisce che anche in un film più spesso, il potenziale per un trasporto elettrico efficiente è ancora presente.
Il film ha mostrato quelle che sono conosciute come oscillazioni di Shubnikov-de Haas (SdH), che sono variazioni nella resistenza elettrica dovute all'influenza di un campo magnetico. Queste oscillazioni hanno prodotto un modello complesso e hanno mostrato più frequenze, indicando la presenza di vari gruppi di portatori di carica. Questi gruppi includono gli Stati di Superficie Topologici e gli stati di massa nella zona vicina al gate.
Contesto storico
I ricercatori sono interessati a HgTe e ai suoi materiali correlati, come HgCdTe, da oltre cinque decenni. All'inizio, l'attenzione era rivolta al loro gap di banda bulk minimo o inesistente, che consente interazioni affascinanti con il coupling spin-orbitale, portando a comportamenti unici per le particelle nei sistemi a stato solido.
Con il progredire della ricerca, proprietà come il blocco spin-momento sono diventate chiare, riaccendendo l'interesse per la fisica delle strutture di HgTe. Ora si riconosce che i film di HgTe 2D o quasi-2D hanno stati di superficie non triviali a varie posizioni del livello di Fermi, anche se il gap di banda bulk è presente.
L'importanza dello spessore
La transizione da film spessi 80 nm o 200 nm a un film molto più spesso di 1000 nm rappresenta un cambiamento significativo nelle caratteristiche del materiale. Il film più spesso ospita quelli che classifichiamo come portatori bulk 3D triviali che possono interagire con stati di superficie topologici, rendendo essenziale studiare come questi portatori influenzano le proprietà di trasporto complessive.
Impostazione sperimentale
Il film di HgTe spesso 1000 nm è stato cresciuto utilizzando epitassia a fascio molecolare su un substrato. Il film è stato posizionato tra strati barriera, e un gate metallico è stato utilizzato per controllare l'ambiente elettrico. Un aspetto fondamentale della nostra analisi ha coinvolto l'esame della resistenza elettrica e della capacità della struttura.
Le misurazioni di trasporto sono state condotte a temperature molto basse, permettendoci di catturare comportamenti dettagliati dei portatori. La corrente fluiva attraverso canali stretti e le misurazioni sono state effettuate sotto campi magnetici variabili.
Diversi tipi di portatori
Valutando le proprietà di trasporto, abbiamo identificato più gruppi di portatori di carica all'interno del film. I portatori possono essere ampiamente divisi in tre tipi:
- Portatori bulk 3D triviali: Questi sono gli elettroni e i buchi standard che esistono in tutto il bulk del materiale.
- Portatori dello strato di accumulo: Formati a causa della tensione del gate, questi possono essere elettroni o buchi e hanno caratteristiche 2D più distinte.
- Stati di superficie topologici: Presenti a tutte le tensioni del gate, questi hanno proprietà uniche che li rendono essenziali per comportamenti di trasporto avanzati.
Dominanza di elettroni e buchi
Regolando la tensione del gate, potevamo passare da uno stato che conduceva principalmente elettroni a uno che conduceva buchi. Quando la tensione veniva regolata, abbiamo osservato cambiamenti significativi nei valori di resistenza. Anche le misurazioni di capacità erano cruciali poiché riflettevano le densità di portatori di carica all'interno del film.
A tensioni elevate del gate positive, gli elettroni dominavano il trasporto, mentre a valori più bassi, i buchi iniziavano a giocare un ruolo più grande. Abbiamo anche notato che la mobilità degli elettroni era molto più alta rispetto ai buchi, il che influenzava la risposta elettrica complessiva.
Analisi di magneto-trasporto
La nostra analisi dell'influenza del campo magnetico sulla resistenza ha evidenziato che il sistema mostrava una forte magnetoresistenza positiva. Questo significa che la resistenza aumenta significativamente con l'applicazione di un campo magnetico. La resistenza di Hall, che riguarda la densità dei portatori di carica, ha mostrato anch'essa cambiamenti a seconda che fosse in uno stato positivo o negativo del gate.
Per comprendere meglio queste caratteristiche, abbiamo applicato un modello a due componenti per analizzare i dati. Questo ha aiutato a identificare la presenza sia di elettroni che di buchi e a determinare i loro rispettivi contributi alle proprietà di trasporto.
Proprietà di trasporto quantistico
Le oscillazioni di Shubnikov-de Haas erano particolarmente pronunciate, permettendoci di capire di più sulla densità di portatori nel film. L'esistenza di schemi di oscillazione unici suggerisce che diversi tipi di portatori di carica interagiscono in modi complessi.
Per le tensioni positive del gate, abbiamo osservato più picchi negli spettri di Fourier delle oscillazioni di conducibilità. Questi picchi indicavano la presenza di vari gruppi di portatori 2D. Curiosamente, mentre esploravamo l'intervallo di tensione negativa del gate, emersero picchi distintivi a causa della formazione dei livelli di Landau, mostrando la relazione tra il campo magnetico e gli stati di carica.
Analisi di mobilità e densità
Utilizzando i dati ottenuti dai nostri esperimenti, siamo riusciti a determinare le densità di elettroni e buchi attraverso diverse tensioni del gate. Questo ha rivelato che gli elettroni e i buchi ad alta mobilità contribuiscono significativamente alle proprietà di trasporto. Abbiamo notato tendenze particolari in come queste densità cambiavano con le tensioni del gate variabili, stabilendo una connessione tra gli stati di carica e gli effetti di gating esterni.
Conclusione
Per riassumere, lo studio di un film di HgTe spesso 1000 nm ha rivelato ricche proprietà elettriche che derivano dalle interazioni tra diversi tipi di portatori di carica. Analizzando attentamente l'impatto della tensione del gate e dei campi magnetici, siamo stati in grado di osservare comportamenti complessi, inclusa l'alta mobilità e la presenza di stati di superficie topologici.
Questo lavoro suggerisce che questo tipo di materiale potrebbe avere applicazioni promettenti nei futuri dispositivi elettronici, dove capire l'interazione di vari tipi di portatori è essenziale per sviluppare nuove tecnologie. La continua ricerca su film più spessi potrebbe portare a ulteriori approfondimenti nel mondo affascinante degli isolanti topologici e del loro ruolo nell'elettronica moderna.
Titolo: Transport properties of a 1000-nm HgTe film: the interplay of surface and bulk carriers
Estratto: We report on systematic study of transport properties of a 1000-nm HgTe film. Unlike to thinner and strained HgTe films, which are known as high-quality three-dimensional (3D) topological insulators, the film under study is much thicker than the limit of pseudomorphic growth of HgTe on a CdTe substrate. Therefore, it is expected to be fully relaxed and has the band structure of bulk HgTe, i.e., a zero gap semiconductor. Nevertheless, since the bands inversion the two-dimensional (2D) topological surface states are still expected to exist. To check this claim we studied classical and quantum transport response of the system. We demonstrate that by tuning the top-gate voltage one can change the electron-dominating transport to the hole one. The highest electron mobility is found to be more than $300 \times 10^3$ cm$^2$/Vs. The system exhibits Shubnikov-de Haas (SdH) oscillations with a complicated pattern and shows up to 5 independent frequencies in corresponding Fourier spectra. They are attributed to the topological surface states, Volkov-Pankratov states and spin-degenerate bulk states in the accumulation layer near the gate. The observed peculiarities of the quantum transport are the strong SdH oscillations of the Hall resistance, and the suppressed oscillatory response of the topological surface states.
Autori: M. L. Savchenko, D. A. Kozlov, N. N. Mikhailov, S. A. Dvoretsky, Z. D. Kvon
Ultimo aggiornamento: 2023-02-08 00:00:00
Lingua: English
URL di origine: https://arxiv.org/abs/2302.04010
Fonte PDF: https://arxiv.org/pdf/2302.04010
Licenza: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
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