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# Physique# Science des matériaux

S'attaquer au bruit de charge dans les qubits de spin pour l'informatique quantique

Cette recherche se concentre sur la réduction du bruit de charge dans les qubits en silicium et en germanium.

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L'informatique quantique promet beaucoup pour l'avenir de la technologie, et l'un des domaines les plus excitants, c'est l'utilisation des Qubits de spin. Ces qubits reposent sur le spin des électrons dans des matériaux comme le silicium (Si) et le germanium (Ge). Ils affichent d'excellentes performances en termes de temps de cohérence, c'est-à-dire combien de temps ils peuvent garder leur état quantique sans perdre d'infos. Mais un gros défi reste : le Bruit de charge. Ce bruit peut interférer avec l'efficacité des qubits, donc il est essentiel d'identifier et de régler les sources de ces fluctuations.

Bruit de Charge dans les Qubits de Spin

Le bruit de charge fait référence aux fluctuations indésirables dans la charge électrique d'un matériau, ce qui peut perturber les performances des qubits. Concernant les qubits de spin basés sur des points quantiques, ces fluctuations proviennent principalement des défauts dans les matériaux utilisés, notamment des liaisons pendantes. Une liaison pendante survient quand un atome dans un solide n’a pas un ensemble complet de liaisons, le rendant instable et susceptible d'interagir avec des charges. Comprendre d'où viennent ces défauts est crucial pour améliorer la stabilité et la fiabilité des points quantiques.

Investigation des Défauts

Pour enquêter sur les sources de bruit de charge, les chercheurs se sont concentrés sur les liaisons pendantes dans le silicium et le germanium. Grâce à des techniques de calcul avancées, il est possible d'étudier comment ces liaisons pendantes se comportent dans différents environnements. Cette approche examine le rôle des facteurs locaux et globaux dans le comportement de ces défauts.

Le Rôle de l’Environnement

L'environnement autour d'un défaut influence énormément son comportement. Par exemple, le silicium et le germanium peuvent former des Alliages, et la composition locale de ces alliages peut impacter comment les défauts se comportent. Un alliage est un mélange de deux éléments ou plus qui donne généralement de meilleures propriétés que les éléments individuels. Dans notre étude, on a regardé comment les variations dans l'environnement local, comme la présence d'autres atomes, pouvaient changer les niveaux de défauts associés aux liaisons pendantes.

Tension et Oxydation

Un autre facteur qui peut influencer le bruit de charge est la tension dans le matériau. La tension survient quand un matériau est déformé, ce qui peut changer comment les atomes s'arrangent et affecter la stabilité des liaisons pendantes. C'est particulièrement pertinent dans les structures où le silicium est coincé entre des couches de germanium. L'interface entre ces différents matériaux peut créer des défauts supplémentaires.

L'oxydation est aussi significative, car elle peut entraîner la formation de couches d'oxyde qui introduisent leurs propres défauts. Ces couches d'oxyde peuvent interagir avec le silicium ou le germanium sous-jacent, entraînant plus de bruit de charge. Analyser les effets combinés de la tension et de l'oxydation sur le bruit de charge peut donner des indices sur comment atténuer ces problèmes.

Caractérisation des Défauts

Dans notre recherche, on a caractérisé différents types de défauts de liaisons pendantes dans le silicium et le germanium. On a trouvé que certaines configurations de ces défauts étaient plus problématiques que d'autres. Par exemple, les liaisons pendantes du germanium étaient identifiées comme particulièrement préoccupantes à cause de leur tendance à piéger des charges. Ça peut mener à des fluctuations dans les états quantiques des qubits de spin.

Architectures de Qubits

Les architectures de points quantiques basées sur le silicium ont été privilégiées à cause de leurs longs temps de cohérence et des méthodes de fabrication établies. Les points quantiques sont de minuscules particules semi-conductrices qui peuvent confiner des électrons en trois dimensions. Ce confinement peut améliorer les performances des qubits, les rendant plus fiables. En général, la fabrication de ces dispositifs implique l'utilisation de portes structurées sur du silicium et des couches de silicium-oxyde, qui peuvent être optimisées à travers une purification isotopique.

Fidélités de Porte

La fidélité de porte fait référence à l'exactitude des opérations effectuées sur les qubits. Une haute fidélité de porte est cruciale pour le succès de l'informatique quantique, car elle affecte directement les taux d'erreur dans le système. Des recherches ont montré que les dispositifs quantiques basés sur le silicium peuvent atteindre des fidélités de porte de qubit unique dépassant 99,9 %. Ça veut dire que les opérations effectuées sur les qubits sont très précises, ce qui est essentiel pour passer à des systèmes d'informatique quantique plus grands.

Mécanismes de Bruit de Charge

Comprendre les mécanismes derrière le bruit de charge devient essentiel quand on veut améliorer les performances des qubits. Les pièges de charge, qui sont des défauts capables de capturer et de retenir des charges, sont considérés comme une source majeure de ce bruit. Les emplacements de ces pièges, surtout près des interfaces des matériaux, peuvent mener à des niveaux accrus de fluctuations de charge.

Calculs de Premier Principe

Pour approfondir ces mécanismes, les chercheurs ont utilisé des calculs de premier principe. Ces calculs permettent de prédire comment les défauts se comportent dans diverses conditions, comme différentes compositions matérielles et environnements locaux. En simulant ces conditions, il devient possible d'identifier quelles configurations entraînent plus de bruit de charge.

Résultats et Implications

Les résultats montrent une relation claire entre le type de défauts de liaisons pendantes et le niveau de bruit de charge qu'ils produisent. Pour le silicium et le germanium, la recherche a identifié que les liaisons pendantes du germanium sont plus susceptibles de causer des interruptions dans les performances des qubits. Ça devient particulièrement préoccupant dans des matériaux où la composition peut varier.

Importance de l'Homogénéité des Alliages

Les résultats soulignent l'importance d'utiliser des alliages homogènes dans la fabrication de points quantiques. L'homogénéité des alliages peut réduire le nombre de défauts et minimiser le bruit de charge. Ça suggère que des stratégies comme la passivation, qui consiste à recouvrir les défauts pour les stabiliser, pourraient être efficaces pour améliorer les performances des points quantiques basés sur le silicium.

Considérations sur l'Architecture des Dispositifs

Quand on conçoit des dispositifs de points quantiques, il est crucial de considérer comment les différentes couches interagissent entre elles. Dans les architectures où le silicium est interfacé avec le germanium, les propriétés de chaque couche doivent être bien comprises. Le choix des matériaux et leur agencement peuvent avoir un impact significatif sur les performances de tout le système.

Méthodes Computationnelles

La recherche a utilisé la théorie de la fonctionnelle de densité (DFT) avec des méthodes computationnelles avancées. Cette technique permet aux chercheurs de modéliser avec précision les propriétés des matériaux à l'échelle atomique, fournissant des aperçus sur comment les défauts se comportent dans divers environnements. En calculant les configurations électroniques des matériaux, des infos précieuses peuvent être recueillies pour comprendre le bruit de charge.

Résumé des Découvertes

L'enquête sur les liaisons pendantes a révélé des insights significatifs sur les sources de bruit de charge dans les points quantiques en silicium et germanium. La recherche a identifié que les défauts dans ces matériaux peuvent grandement influencer la cohérence et la fidélité des qubits. De plus, il est devenu clair que les environnements chimiques locaux et les propriétés matérielles globales sont critiques pour comprendre comment le bruit de charge se manifeste.

Directions de Recherche Futures

Pour l'avenir, il est essentiel de se concentrer sur des méthodes pour atténuer le bruit de charge dans les dispositifs de points quantiques. Cela pourrait inclure l'amélioration des techniques de synthèse matérielle pour obtenir une meilleure homogénéité des alliages ou le développement de nouvelles méthodes de passivation pour stabiliser les liaisons pendantes. Des recherches continues sont nécessaires pour explorer davantage l'interaction entre les défauts et leurs environnements afin d'améliorer les performances des systèmes de calcul quantique basés sur le spin.

Conclusion

Le bruit de charge reste un obstacle majeur dans l'avancement des qubits de points quantiques basés sur le silicium. En identifiant les sources de fluctuations de charge, en particulier en relation avec les liaisons pendantes dans le silicium et le germanium, les chercheurs peuvent travailler sur des stratégies pour améliorer la fiabilité des technologies de calcul quantique. Les découvertes des études récentes fournissent une base pour les travaux futurs visant à améliorer les performances des qubits et, au final, à repousser les limites de la technologie quantique.

Source originale

Titre: Dangling bonds as possible contributors to charge noise in silicon and silicon-germanium quantum dot qubits

Résumé: Spin qubits based on Si and Si$_{1-x}$Ge$_{x}$ quantum dot architectures exhibit among the best coherence times of competing quantum computing technologies, yet they still suffer from charge noise that limit their qubit gate fidelities. Identifying the origins of these charge fluctuations is therefore a critical step toward improving Si quantum-dot-based qubits. Here we use hybrid functional calculations to investigate possible atomistic sources of charge noise, focusing on charge trapping at Si and Ge dangling bonds (DBs). We evaluate the role of global and local environment in the defect levels associated with DBs in Si, Ge, and \sige alloys, and consider their trapping and excitation energies within the framework of configuration coordinate diagrams. We additionally consider the influence of strain and oxidation in charge-trapping energetics by analyzing Si and Ge$_{\rm Si}$ DBs in SiO$_2$ and strained Si layers in typical \sige quantum dot heterostructures. Our results identify that Ge dangling bonds are more problematic charge-trapping centers both in typical \sige alloys and associated oxidation layers, and they may be exacerbated by compositional inhomogeneities. These results suggest the importance of alloy homogeneity and possible passivation schemes for DBs in Si-based quantum dot qubits and are of general relevance to mitigating possible trap levels in other Si, Ge, and Si$_{1-x}$Ge$_{x}$-based metal-oxide-semiconductor stacks and related devices.

Auteurs: Joel B. Varley, Keith G. Ray, Vincenzo Lordi

Dernière mise à jour: 2023-06-09 00:00:00

Langue: English

Source URL: https://arxiv.org/abs/2306.06229

Source PDF: https://arxiv.org/pdf/2306.06229

Licence: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/

Changements: Ce résumé a été créé avec l'aide de l'IA et peut contenir des inexactitudes. Pour obtenir des informations précises, veuillez vous référer aux documents sources originaux dont les liens figurent ici.

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