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# Física# Ciencia de materiales# Física aplicada

Avances en materiales ferroeléctricos para electrónicos

Descubriendo mejoras en materiales ferroeléctricos para mejorar dispositivos electrónicos.

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Progreso en MaterialesProgreso en MaterialesFerroeléctricosy el rendimiento del dispositivo.Nuevas películas mejoran la eficiencia
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En el mundo de la electrónica, un área interesante son los Materiales Ferroeléctricos. Estos materiales pueden cambiar sus propiedades eléctricas cuando se les aplica un voltaje. Esta capacidad los hace útiles para aplicaciones en computación, especialmente en dispositivos que imitan la forma en que trabaja nuestro cerebro, llamados dispositivos neuromórficos. Recientemente, los investigadores han avanzado en la mejora de estos materiales, especialmente en hacerlos más delgados y eficientes.

¿Qué Son los Materiales Ferroeléctricos?

Los materiales ferroeléctricos tienen una propiedad única: pueden tener una polarización eléctrica permanente. Esto significa que pueden mantener una carga eléctrica incluso cuando la energía está apagada. Cuando se les aplica un voltaje, pueden cambiar la dirección de su polarización. Este cambio ocurre rápidamente y es útil para varios dispositivos electrónicos, especialmente en el almacenamiento de memoria y sensores.

El Desafío con las Películas delgadas

Un desafío al usar materiales ferroeléctricos es que cuando se hacen en capas muy delgadas, su rendimiento puede variar mucho de un dispositivo a otro. Esta variabilidad puede afectar el funcionamiento de los dispositivos, especialmente cuando se supone que deben operar de manera analógica, similar a cómo trabajan las neuronas. El tamaño de los granos, o pequeños cristales, en estas películas puede ser similar al tamaño del dispositivo completo. Esto hace que sea difícil lograr un rendimiento consistente.

Nuevos Desarrollos en Películas Ferroeléctricas Tipo Wurtzita

Se ha desarrollado un nuevo tipo de material ferroeléctrico, conocido como tipo wurtzita. Estos materiales han mostrado promesas para superar algunos problemas que enfrentaban los tipos anteriores. Pueden hacerse más puros y uniformes, lo que debería ayudar a mejorar el rendimiento de los dispositivos.

Logros de las Nuevas Películas Ferroeléctricas

Los avances recientes en las películas ferroeléctricas tipo wurtzita incluyen:

  1. Voltajes de Conmutación Más Bajos: Los investigadores han logrado hacer películas ferroeléctricas que pueden cambiar con un voltaje tan bajo como 1 Volt. Esto es importante porque significa que pueden trabajar con fuentes de energía estándar usadas en muchos dispositivos electrónicos.

  2. Mejor Rendimiento en Silicio: Al crecer estas películas sobre sustratos de silicio, los investigadores han observado que las propiedades de las películas mejoran. Esto es importante ya que el silicio es el material más común usado en dispositivos electrónicos.

  3. Observación de Dominios Ferroeléctricos: Por primera vez, los científicos han podido ver la formación de dominios ferroeléctricos a nivel atómico. Estos dominios son más pequeños y más organizados en comparación con los materiales anteriores, lo que es crucial para su rendimiento.

Importancia del Grosor de la Película

El grosor de las películas ferroeléctricas juega un papel crítico en su rendimiento. Las nuevas películas de menos de 5 nm han demostrado que las películas más delgadas pueden mantener sus habilidades únicas de conmutación. Esto es importante porque los materiales más delgados son frecuentemente necesarios en los dispositivos electrónicos modernos que requieren tamaños más pequeños.

Investigación de Propiedades Eléctricas

Al examinar cómo responden estas películas delgadas a los campos eléctricos, los investigadores han recopilado datos valiosos. Descubrieron que a medida que las películas se hacen más delgadas, a menos de 10 nm, ciertas características eléctricas mejoran. El Campo Coercitivo, que es el campo eléctrico mínimo necesario para cambiar la polarización, disminuyó cuando la película era delgada.

Esto significa que los materiales no solo cambian más fácilmente, sino que lo hacen con menos energía, lo cual es una ventaja clave para aplicaciones electrónicas.

Crecimiento Epitaxial vs. No Epitaxial

Hay diferentes formas de hacer crecer estas películas ferroeléctricas. El crecimiento epitaxial implica superponer materiales de una manera que alinea sus estructuras cristalinas. El crecimiento no epitaxial no se centra en esta alineación. Sorprendentemente, las películas no epitaxiales crecidas sobre silicio mostraron un mejor rendimiento de conmutación que sus contrapartes epitaxiales.

Este hallazgo sugiere que el método de crecimiento puede tener un impacto significativo en las propiedades finales del material. La respuesta ferroeléctrica más pronunciada en las películas no epitaxiales indica la importancia de la elección del sustrato y la gestión del estrés en estas películas.

Entendiendo el Campo Coercitivo

El campo coercitivo es un factor clave en el rendimiento de estos materiales. Es el campo eléctrico requerido para revertir la dirección de polarización. Los investigadores notaron que el campo coercitivo cambia a medida que cambia el grosor de la película. Las películas más delgadas mostraron una disminución en el campo coercitivo, lo que significa que pueden cambiar más fácilmente.

Este comportamiento es esencial para aplicaciones en computación, ya que los dispositivos que pueden cambiar con menores requerimientos de energía pueden operar de manera más eficiente.

Investigación de Dominios Ferroeléctricos

La capacidad de visualizar dominios ferroeléctricos es revolucionaria. Usando técnicas de imagen avanzadas, los científicos pudieron ver cómo se comportan estos dominios a nivel atómico. Comprender el tamaño y la forma de estos dominios puede ayudar a diseñar incluso mejores materiales para futuras aplicaciones.

Estas observaciones llevaron a conocimientos sobre cómo los dominios cambian de forma y posición cuando ocurre la conmutación. Este tipo de entendimiento es crucial para avanzar en el diseño de dispositivos de memoria y sensores.

Implicaciones para la Computación Neuromórfica

La computación neuromórfica tiene como objetivo crear sistemas que imiten el cerebro humano, lo que podría llevar a soluciones de computación más eficientes en energía y poderosas. Los avances en materiales ferroeléctricos tipo wurtzita podrían apoyar este objetivo al permitir una conmutación analógica más efectiva, similar a cómo las neuronas transmiten señales.

La capacidad de crear dispositivos que pueden cambiar de estado de manera controlada abre posibilidades para crear estructuras más eficientes similares a sinapsis en la electrónica futura. Esto podría llevar a una mejor reconocimiento de imágenes, toma de decisiones y algoritmos de aprendizaje.

Conclusión

El progreso en materiales ferroeléctricos, particularmente las nuevas películas tipo wurtzita, marca un paso importante hacia mejores dispositivos electrónicos. Al lograr voltajes de conmutación bajos y demostrar un mejor rendimiento en sustratos de silicio, estos materiales tienen un potencial prometedor para futuras aplicaciones en computación.

A medida que los investigadores continúan explorando las características de estos materiales a nivel atómico, podemos esperar ver soluciones aún más innovadoras en electrónica, especialmente en campos que requieren eficiencia energética y tamaños pequeños. La comprensión del comportamiento de los dominios y el efecto del grosor de la película ayudará a dar forma al futuro del diseño electrónico, allanando el camino para aplicaciones de próxima generación.

Fuente original

Título: In-Grain Ferroelectric Switching in Sub-5 nm Thin AlScN Films at 1 V

Resumen: Analog switching in ferroelectric devices promises neuromorphic computing with highest energy efficiency, if limited device scalability can be overcome. To contribute to a solution, we report on the ferroelectric switching characteristics of sub-5 nm thin Al$_{0.74}$Sc$_{0.26}$N films grown on Pt/Ti/SiO2/Si and epitaxial Pt/GaN/sapphire templates by sputter-deposition. In this context, we focus on the following major achievements compared to previously available wurtzite-type ferroelectrics: 1) Record low switching voltages down to 1 V are achieved, which is in a range that can be supplied by standard on-chip voltage sources. 2) Compared to the previously investigated deposition of thinnest Al$_{1-x}$Sc$_x$N films on epitaxial templates, a significantly larger coercive field to breakdown field ratio is observed for Al$_{0.74}$Sc$_{0.26}$N films grown on silicon substrates, the technologically most relevant substrate-type. 3) The formation of true ferroelectric domains in wurtzite-type materials is for the first time demonstrated on the atomic scale by scanning transmission electron microscopy investigations of a sub-5 nm thin partially switched film. The direct observation of inversion domain boundaries within single nm-sized grains supports the theory of a gradual domain-wall motion limited switching process in wurtzite-type ferroelectrics. Ultimately, this should enable the analog switching necessary for mimicking neuromorphic concepts also in highly scaled devices.

Autores: Georg Schönweger, Niklas Wolff, Md Redwanul Islam, Maike Gremmel, Adrian Petraru, Lorenz Kienle, Hermann Kohlstedt, Simon Fichtner

Última actualización: 2023-04-06 00:00:00

Idioma: English

Fuente URL: https://arxiv.org/abs/2304.02909

Fuente PDF: https://arxiv.org/pdf/2304.02909

Licencia: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/

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