Avanços na Tecnologia de Transistores MIV para Chips 3D
Um novo design de transistor MIV melhora o desempenho em circuitos integrados 3D.
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Índice
- O Desafio do Espaço Extra
- Uma Nova Abordagem: O MIV-Tranzistor
- A Importância da Integração Vertical
- Desafios com as Técnicas Atuais
- Características da Integração 3D Monolítica
- O Papel do MIV nos M3D-ICs
- Espaço Extra e Performance
- O MIV-Tranzistor de Porta Estendida
- Características do Dispositivo
- Resultados da Simulação
- Circuitos Construídos com MIV-Tranzistor
- Resultados da Simulação Transiente
- Performance do Oscilador em Anel M3D
- Conclusão
- Fonte original
A integração 3D monolítica é uma abordagem bem legal pra construir chips de computador que atendem à demanda crescente por computação. Esse método envolve empilhar camadas de materiais bem fininhos pra criar circuitos mais compactos e eficientes. Uma parte essencial dessa técnica é um componente chamado via intercamada de metal (MIV), que conecta essas camadas. Mas, apesar de os MIVs serem pequenos, eles podem ocupar espaço valioso, o que pode limitar a eficiência do processo de integração como um todo.
O Desafio do Espaço Extra
Em tentativas anteriores de melhorar a integração 3D, pesquisadores tentaram reduzir o espaço ocupado pelos MIVs usando a área ao redor deles para funções adicionais. Embora essas tentativas tenham diminuído o espaço extra, elas também causaram aumento nos vazamentos de energia e dificuldades para escalar os dispositivos. O vazamento de energia refere-se ao fluxo indesejado de corrente que acontece mesmo quando um dispositivo deveria estar desligado, levando a energia desperdiçada e calor.
Uma Nova Abordagem: O MIV-Tranzistor
Pra resolver esses problemas, foi desenvolvido um novo tipo de MIV-tranzistor. Esse design tem como objetivo minimizar os vazamentos e os desafios de escalabilidade enquanto mantém o espaço extra baixo. Usando esse novo MIV-tranzistor, dá pra conseguir melhorias de performance, como menor consumo de energia e operação mais rápida em comparação aos designs antigos.
A Importância da Integração Vertical
Nos últimos anos, os métodos de integração vertical surgiram como uma alternativa melhor do que simplesmente fazer os transistores menores. A escalabilidade 2D tradicional pode levar a limitações em desempenho e eficiência. Mas, quando se integram circuitos verticalmente, dá pra economizar mais espaço e reduzir a necessidade de rotas extensas de conexões entre diferentes partes do chip.
Desafios com as Técnicas Atuais
A maioria das técnicas atuais de integração vertical processa camadas usando Vias de Silício Através (TSVs), que também conectam essas camadas. Infelizmente, os TSVs ocupam muito espaço e podem limitar a eficácia da integração vertical. Como resultado, técnicas mais novas, como a integração 3D monolítica, estão sendo exploradas.
Características da Integração 3D Monolítica
Os circuitos integrados tridimensionais monolíticos (M3D-ICS) são feitos empilhando camadas muito finas de materiais, geralmente entre 7nm e 100nm de espessura. Esse processo é feito em temperaturas baixas pra manter a estabilidade dos dispositivos na camada inferior. Inovações recentes mostram que é possível implementar M3D-ICs de forma eficaz, mesmo com restrições térmicas rígidas.
O Papel do MIV nos M3D-ICs
O MIV tem um papel crucial em conectar diferentes camadas na tecnologia M3D-IC. Com a redução na espessura dos MIVs pra combinar com os tamanhos padrão das células, a integração dos M3D-ICs se tornou mais eficiente. Isso resultou em melhor alinhamento, aumento da densidade de conexões e menos rotas necessárias pra interconectar os circuitos. Uma previsão para designs usando regras de 14nm sugere que a densidade de MIV poderia ultrapassar 100 milhões/mm².
Espaço Extra e Performance
À medida que a densidade dos MIVs aumenta, o espaço que eles ocupam pode se tornar uma preocupação. O acoplamento com dispositivos próximos pode impactar significativamente seu desempenho, o que exige uma zona de proteção ao redor dos MIVs pra mitigar esses efeitos.
Pesquisas anteriores visaram reduzir o espaço extra usando a área ao redor dos MIVs pra criar componentes adicionais. Por exemplo, os MIVs podem ser utilizados tanto como interconexões quanto terminais pra dispositivos, como capacitores e transistores. Um método mostrou que usar um MIV-tranzistor para inversores poderia economizar 24% da área utilizada. Porém, designs mais antigos enfrentaram problemas de escalabilidade devido a larguras restritas e aumento da corrente de vazamento.
O MIV-Tranzistor de Porta Estendida
Pra melhorar a situação, foi introduzido um MIV-tranzistor de porta estendida. Esse novo modelo melhora o controle sobre o canal, reduzindo vazamentos e facilitando a escalabilidade do design pra atender requisitos específicos.
Contribuições Principais
- Introdução de um MIV-tranzistor de porta estendida com dupla função.
- Demonstração de sua eficácia em processos M3D-IC.
- Estudo de modelos de inversores usando esse MIV-tranzistor, junto com testes adicionais em um circuito oscilador.
Características do Dispositivo
A estrutura do MIV-tranzistor de porta estendida é projetada pra fornecer melhor controle sobre o canal. Designs anteriores não utilizavam totalmente a extensão da porta na região do canal, o que prejudicava a escalabilidade e aumentava os vazamentos.
Nas simulações, o novo modelo mostrou melhorias significativas nas características. Por exemplo, a tensão de limiar e a corrente máxima de dreno foram medidas, demonstrando melhor desempenho em comparação aos modelos anteriores.
Resultados da Simulação
Simulações comparativas entre o MIV-tranzistor de porta estendida e modelos anteriores destacam os benefícios do novo design. O desempenho do MIV-tranzistor tipo n foi particularmente notável. À medida que certos parâmetros eram modificados, o modelo de porta estendida provou manter um melhor controle e apresentar correntes de vazamento mais baixas.
Circuitos Construídos com MIV-Tranzistor
Usando o MIV-tranzistor, um modelo de Inversor foi desenvolvido pra avaliar a performance em nível de circuito. O design utiliza um processo de duas camadas, integrando tanto transistores tipo p quanto tipo n.
Nesse arranjo, o MIV conecta diferentes camadas, permitindo uma comunicação fluida entre elas. Foi vital avaliar como o MIV impacta o desempenho dos dispositivos ao redor. Uma área ao redor do MIV foi designada pra minimizar a interferência com circuitos próximos.
Resultados da Simulação Transiente
Uma série de testes mediu os indicadores-chave de desempenho do design do inversor usando um MIV-tranzistor de porta estendida. Os resultados indicaram mudanças menores nas medições de tempo, com foco específico nos tempos de subida e descida do sinal de saída.
Os atrasos de propagação também mostraram melhorias. Ao comparar ambos os designs, ficou claro que o novo MIV-tranzistor obteve melhores resultados em consumo de energia enquanto mantinha a mesma área em silício.
Performance do Oscilador em Anel M3D
Um design de oscilador em anel usou três estágios do inversor M3D interligados em um loop de feedback. Cada inversor seguiu os mesmos princípios de design M3D usados nos testes anteriores. Métricas de desempenho foram registradas, incluindo frequência e consumo de energia.
Os resultados do design de porta estendida mostraram melhorias substanciais em eficiência em comparação aos modelos mais antigos, mesmo com variações nas taxas de oscilação. O consumo de energia também aumentou em comparação aos designs anteriores, mas os benefícios em outras áreas provaram valer a pena.
Conclusão
Esse trabalho destaca a eficácia de expandir a região de controle dos MIV-transistores pra atender às necessidades modernas de computação. O design de porta estendida reduz significativamente os vazamentos e melhora o desempenho geral dos inversores M3D e os osciladores em anel.
Sem espaço extra adicionado, o novo design de MIV-tranzistor mostra recursos aprimorados em comparação com modelos anteriores. Essa inovação é um passo à frente na criação de chips de computador mais eficientes e poderosos que podem lidar com demandas futuras.
Focando nos benefícios dos MIV-transistores e nos avanços nas tecnologias de integração 3D, esse trabalho oferece insights valiosos pra melhorar a arquitetura dos computadores. Ele estabelece a base pra pesquisas e desenvolvimentos contínuos nesse campo que está evoluindo rapidamente.
Título: Efficient and Scalable MIV-transistor with Extended Gate in Monolithic 3D Integration
Resumo: Monolithic 3D integration has become a promising solution for future computing needs. The metal inter-layer via (MIV) forms interconnects between substrate layers in Monolithic 3D integration. Despite small size of MIV, the area overhead can become a major limitation for efficient M3D integration and, thus needs to be addressed. Previous works focused on the utilization of the substrate area around MIV to reduce this area overhead significantly but suffers from increased leakage and scaling factors. In this work, we discuss MIV-transistor realization that addresses both leakage and scaling issue along with similar area overhead reduction compared with previous works and, thus can be utilized efficiently. Our simulation results suggest that the leakage current $(I_{D,leak})$ has reduced by $14K\times$ and, the maximum current $(I_{D,max})$ increased by $58\%$ for the proposed MIV-transistor compared with the previous implementation. In addition, performance metrics of the inverter realization with our proposed MIV-transistor specifically the delay, slew time and power consumption reduced by $11.6\%$, $17.9\%$ and, $4.5\%$ respectively compared with the previous implementation with same MIV area overhead reduction.
Autores: Madhava Sarma Vemuri, Umamaheswara Rao Tida
Última atualização: 2023-06-24 00:00:00
Idioma: English
Fonte URL: https://arxiv.org/abs/2306.14033
Fonte PDF: https://arxiv.org/pdf/2306.14033
Licença: https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
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